بررسی مقاومت لاک پلی یورتان پایه آبی در برابر پرتو فرابنفش در مجاورت نانو سریم اکسید

تخریب نوری پلیمرها سبب افت خواص مکانیکی، اپتیکی و مقاومت های شیمیایی آنها می شود. در پوشش های سطح تخریب در اثر پرتو فرابنفش، رطوبت، دما و عوامل زیستی سبب ترک خوردگی و نیز زردی می شود. از این رو، در حفاظت از پلیمرهای مصنوعی و طبیعی سعی می شود، از موادی به کار رود که با ساز وکاری مانع از تخریب پوشش و حتی زیرایند آن شود. در این پژوهش، اثر نانوسریم اکسید (سریا) در جلوگیری از تخریب نوری پوشش های شفاف پلی یورتان پایه آبی بررسی شده است. پوشش های شفاف پلی یورتان پایه آبی با مقادیر مختلف نانوسریم اکسید 44/1-0 درصد وزنی بر پایه مقدار رزین جامد) تهیه و به کمک دستگاه quv، مقاومت جوی آنها ارزیابی شد. تجزیه دینامیکی- گرمایی به همراه آزمون های نوری و طیف سنجیftiratr برای بررسی ساز وکار و مقدار تخریب این پوشش ها و هم چنین اثر نانوذرات در جلوگیری از تخریب انجام شده است. نتایج به دست آمده نشان می دهد، نانوسریا با غلظت 44/1 درصد وزنی در پوشش بیش از 5/92 درصد از پرتو فرابنفش محدوده uv-b را جذب می کند. این نانو ذره با قابلیت جذب بسیار زیاد پرتو فرابنفش سبب کاهش تخریب و کاهش افت گروه های c-h و n-h در سامانه می شود.سرعت از دست رفتن قدرت جذب پرتو فرابنفش نانو سریا در فیلم در مقایسه با فیلم های حاوی جاذب های آلی حاکی از قابلیت حدود 2000 برابر این ترکیب درمقایسه با ترکیبات آلی جاذب فرابنفش است.