>
Fa   |   Ar   |   En
   بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفتهh2o2/zno در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی  
   
نویسنده نوروزی چلچه مریم ,فدایی عبدالمجید ,محمدی مقدم فاضل ,مردانی گشتاسب
منبع آب و فاضلاب - 1396 - دوره : 28 - شماره : 5 - صفحه:39 -47
چکیده    از نگرانی‌های اصلی آلودگی‌های دارویی حضور آنتی‌بیوتیک‌ها در منابع آبی و فاضلاب است که سبب مقاومت میکربی و افزایش مقاومت دارویی در انسان و جمعیت میکروب‌های بیماریزای محیط زیست می‌شود. هدف از این مطالعه بررسی کارایی فرایند اکسیداسیون پیشرفته (h2o2/zno) در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محیط‌های آبی می‌باشد. این مطالعه به روش تجربی انجام گرفت. اندازه نانو ذره اکسید روی با استفاده از روش‌های sem، xrd وtem  آنالیز شد. پارامترهای موثر بر فرایند اکسیداسیون از جمله ph (3، 7 و 11)، نسبت مولی h2o2/zno (1، 5/1 و 3)، غلظت اولیه سفتریاکسون (5، 10 و 15 میلی‌گرم در لیتر) و زمان تماس (30، 60 و 90 دقیقه) بررسی شد. در این مطالعه از روش آنالیز آماریspss  (آزمونanova) استفاده شد. یافته‌های حاصل از xrd  ساختار کریستالی هگزاگونال نانو ذرات اکسید روی را نشان داد، تصویر tem کروی بودن این نانو ذرات را تایید کرد و نتایج حاصل از تصویر sem نشان داد که اندازه نانو ذره روی در این مطالعه کمتر از 30 نانومتر است. نتایج نشان داد که درph  بهینه برابر با 11 و زمان تماس 90 دقیقه و نسبت مولی h2o2/zno برابر 5/1، کارایی حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون 92 درصد می‌باشد. با توجه به یافته‌های این تحقیق فرایند اکسیداسیون پیشرفته h2o2/zno از قدرت بالایی در حذف آنتی‌بیوتیک سفتریاکسون از محلول‌های آبی برخوردار است.
کلیدواژه فرایند اکسیداسیون پیشرفته، نانو ذره اکسید روی، آنتی‌بیوتیک، سفتریاکسون، پراکسید هیدروژن
آدرس دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, دانشکده بهداشت, ایران, دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, دانشکده بهداشت, ایران, دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, دانشکده بهداشت, ایران, دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, مرکز تحقیقات گیاهان دارویی و سلولی مولکولی, ایران
 
   Efficiency of Advanced H2O2/ZnO Oxidation Process in Ceftriaxone Antibiotic Removal from Aqueous Solutions  
   
Authors Noroozi cholcheh Maryam ,Fadaei Abdolmajid ,Mohammadi-Moghadam Fazel ,Mardani Goshtasb
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved