>
Fa   |   Ar   |   En
   تاثیر علف کش متری بیوزین بر منحنی کاتسکی و پارامترهای فلورسنس کلروفیل در بیوتیپ‌های مقاوم و حساس علف هرز درنه (Echinochloa Colona) در شرایط گلخانه  
   
نویسنده الهی فرد الهام ,قنبری علی ,راشد محصل محمد حسن ,زند اسکندر ,میرشمسی کاخکی امین
منبع پژوهش هاي حفاظت گياهان ايران - 1392 - دوره : 27 - شماره : 2 - صفحه:246 -254
چکیده    القا فلورسنس کلروفیل به عنوان یک تکنیک سریع و غیر تخریبی به منظور اندازه گیری انتقال الکترون فتوسنتزی در گیاهان می‌باشد. اندازه گیری‌های فلورسنس کلروفیل به منظور تشخیص چگونگی تحت تاثیر قرار گرفتن منحنی‌های القا فلورسنس (منحنی کاتسکی) و پارامترهای آن توسط علف کش متری بیوزین در بیوتیپ‌های مقاوم وحساس درنه (echinochloa colona (l.) link.) در گلخانه انجام شد. حداکثر کارایی کوانتومی فتوسیستم 2 (fv/fm)، تغییرات نسبی فلورسنس در مرحله j (fvj) و مساحت بین منحنی کاتسکی و fm (area) چهار ساعت پس از پاشش علف کش در بیوتیپ حساس به شدت کاهش پیدا کردند؛ بطوریکه اعمال غلظت 100 گرم ماده موثره در هکتار مقادیر سه پارامتر fv/fm، fvj و area را به ترتیب به 66/0، 07/0 و 14062 کاهش دهد. در حالیکه این پارامترها در بیوتیپ‌های مقاوم تنها در غلظت‌های زیاد علف کش مذکور تحت تاثیر قرار گرفتند. هرچند که در پاسخ بیوتیپ‌های مقاوم نسبت به پارامترهای اندازه گیری شده تفاوت‌های زیادی وجود داشت که دلیل آن می‌تواند وجود مکانیسم‌های متفاوت مقاومت به علف کش باشد. پارامترهای اندازه گیری شده نیز حساسیت‌های متفاوتی نسبت به کاربرد علف کش نشان دادند؛ به طوری که در بین پارامترهای فلورسنس اندازه گیری شده، fv/fm پارامتری مناسب و پایدار جهت تشخیص سریع میان بیوتیپ حساس و مقاوم چند ساعت پس از تیمار با علف کش بود. از آنجا که پارامترهای فلورسنس کلروفیل بلافاصله پس از کابرد علف کش تحت تاثیر قرار می‌گیرند بنابراین می‌توانند به عنوان ابزاری کاربردی جهت بررسی میزان کارایی علف کش در مزرعه و گلخانه مورد استفاده واقع شوند.
کلیدواژه بازدارنده‌های فتوسیستم 2 ,فتوسنتز ,مقاومت به علف کش
آدرس دانشگاه فردوسی مشهد, دانشجوی دکتری, ایران, دانشگاه فردوسی مشهد, استادیار, ایران, دانشگاه فردوسی مشهد, استاد, ایران, عضو هییت علمی, ایران, دانشگاه فردوسی مشهد, استادیار, ایران
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved