>
Fa   |   Ar   |   En
   توسعه یک مدل دو هدفه برای مسئله حداکثر پوشش با محدودیت پارامترهای صف  
   
نویسنده سیف برقی مهدی ,فرقانی راضیه ,راثی ظریفه
منبع مطالعات مديريت صنعتي - 1389 - دوره : 8 - شماره : 18 - صفحه:1 -13
  
کلیدواژه مکان یابی ,حداکثر پوشش ,صف ,الگوریتم ژنتیک ,خدمت دهنده
آدرس دانشگاه الزهرا (س), دانشکده فنی و مهندسی, ایران, دانشگاه الزهرا (س), دانشکده فنی و مهندسی, گروه مهندسی صنایع, ایران, دانشگاه الزهرا (س), دانشکده فنی و مهندسی, گروه مهندسی صنایع, ایران
پست الکترونیکی zarifeh_r1596@yahoo.com
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved