حذف دیکلوفناک از محیطهای آبی توسط فرایند uv/tio2در یک فوتوراکتور ناپیوسته با بستر ثابت: بهینه سازی به روش سطح پاسخ

در این کار تحقیقی حذف یک آلایندة دارویی تحت عنوان دیکلوفناک (dcf) با استفاده از فرآیند uv/tio2در یک فوتوراکتور ناپیوسته با بستر ثابت مورد بررسی قرار گرفته و شرایط عملیاتی موثر در کارآیی فرایند به روش سطح پاسخ (rsm) از نوع طراحی ترکیب مرکزی (ccd) بهینه‌سازی شده است. نتایج طراحی آزمایش نشان‌دهنده اثر مثبت پارامترهای زمان تابش نور، دبی حجمی و اثر منفی پارامترهای غلظت اولیه dcf و ph در راندومان حذف آلاینده مورد نظر (dcf) از محیط های آبی می‌باشد. همچنین از پارامترهای موثر در راندمان حذف، بیشترین تاثیر مربوط به پارامترهای زمان تابش و ph می‌باشد. مقدار ph بهینه برای حذف dcf در فرایند مذکور حوالی 4.5 می‌باشد.

removal of diclofenac from aqueous media by uv/tio2 process in a fixed-bed batch photoreactor: optimization by response surface methodology

in this study, the removal of a pharmaceutical contaminant, diclofenac (dcf), using the uv/tio₂ process in a fixed-bed batch photoreactor was investigated. the effective operating conditions influencing the process efficiency were optimized using response surface methodology (rsm) of the central composite design (ccd) type. the results of the experimental design indicated a positive effect of light irradiation time and volumetric flow rate, and a negative effect of initial dcf concentration and ph on the removal efficiency of dcf from aqueous media. among the studied parameters, irradiation time and ph were found to be the most influential. the optimal ph for dcf removal in this process was approximately 4.5.