نهشت فیلم کربن آمورف هیدروژن دار آ لیشی افته با فلوئور ) a-c:h:f ( به روش پلاسمای سردفشار-پایین: مطالعه خواص سطحی و ترکیبی آن و کاربرد در ساخت پوششهای عایق

در این پژوهش، فیلم کربن آمورف هیدروژ ندار آلایشیافته با فلوئور ) a-c:h:f ( با استفاده از پلاسمای تخلیه سد دیالکتریک برای ترکیب گازی4: cf4 h2c در فشارهای پایین نهشت داده شد و خواص آن مورد مطالعه قرار گرفت. هدف از این پژوهش نهشت عامل فلوئور بود که به عنوان عاملی در ساخت پوششهای عایق و ابرعایق و سطوح فو قآبگریز شناخته میشود. به منظور تجزیه و تحلیل ترکیب شیمیایی و گروههای عاملی، آزمون ftir از نمونهها گرفته شد. طیفهای ftir نمونهها، گروههای عاملی فلوئور و فلوئورکرب نها ) xcf ( را نشان داد. در ادامه خواص سطحی و ریخت شناسی سطح توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی ) sem ( مورد بررسی قرار گرفت. در آخر نمودار ولتاژ-جریان فیلم a-c:h:f نهشت شده روی بستر فوم فلزی تجزیه و تحلیل شد هاست. با توجه به داد ههای ب هدست آمده م یتوان نتیجه گرفت که، استفاده از نهشت پلاسمایی بر پایه تخلیه سد د یالکتریک، روشی مناسب برای ساخت فیل مهای آمورف a-c:h:f است .