>
Fa   |   Ar   |   En
   حفاظت از خوردگی مس با استفاده از پوشش نانو ذرات تریونین/پلی الورا رد  
   
نویسنده خرم مسلک نازیلا ,سید احمدیان سید مسعود ,فرهادی خلیل
منبع چهارمين كنفرانس ملي شيمي كاربردي ايران - 1398 - دوره : 4 - چهارمین کنفرانس ملی شیمی کاربردی ایران - کد همایش: 98190-11302 - صفحه:0 -0
چکیده    پوشش پلی الورا رد(par) طی یک فرایند دو مرحله ای بر سطح فلز مس٬لایه نشانی شد. در مرحله اول٬ به منظور افزایش چسبندگی این پوشش بر سطح فلز مس٬ تک لایه ای از مولکولهای تریونین بر سطح مس لایه نشانی می شود و در ادامه پوشش پلی الورا رد طی یک فرایند اتوپلیمریزاسیون به صورت شیمیایی بر سطح فلز مس دارای پوشش تریونین٬ جذب سطحی میشود. رفتار بازدارندگی از خوردگی پوششهای تریونین و پلی الورا رد در محلول خوردنده سدیم کلرید 5.3 %٬ با روشهای پلاریزاسیون پتانسیودینامیک واسپکتروسکوپی امپدانس الکتروشیمیایی مورد بررسی قرار می گیرد. نتایج ازمایشات انجام شده نشان می دهد که پوشش تریونین/پلی الورا رد حاصل به خوبی توانسته است سطح فلز مس را در محیط مهاجم سدیم کلرید از خوردگی محافظت نماید.واژه های کلیدی: خوردگی٬ الورا رد٬ تریونین٬ بازدارنده
کلیدواژه خوردگی٬ الورا رد٬ تریونین٬ بازدارنده
آدرس , iran, , iran, , iran
پست الکترونیکی khalil.farhadi@yahoo.com
 
   threonine/allura red nanoparticle-coatings for copper corrosion protection  
   
Authors
Abstract    poly allura red (par) coating on a copper surface was successfully prepared using a two-step process. in the first stage, in order to improve the adhesion of par on the copper surface, a self-assembled monolayer of threonine was deposited on a bare copper. thereafter, the par coating was fabricated through the chemical adsorption and auto-polymerization of the allura red on the threonine-coated copper surface. the inhibitory behavior of threonine and par films has been investigated in aqueous 3.5% nacl solution using potentiodynamic polarization and electrochemical impedance spectroscopy. it is demonstrated that the threonine/ par coating provides significant protection against copper corrosion.
Keywords corrosion ,allura red ,threonine ,inhibitor
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved