بررسی اثر ولتاژ بر جذب اپتیکی لایه اکسید آلومینیوم نانومتخلخل تولید شده به روش آندایزینگ

بسیاری از کاربردهای نیم رساناهای سرامیکی در حوزه مهندسی سطح وابسته به رفتار اپتیکی آن ها می باشد. آندایزینگ سبب افزایش ضخامت لایه اکسید طبیعی بر سطح آلومینیوم شده و سطحی مقاوم به سایش و خوردگی بر سطح آن ایجاد می کند. در عین حال، مشاهده شده که لایه های آندیک بر سطح آلومینیوم دارای فعالیت اپتیکی و رفتار نیمه رسانایی نیز می باشد. در این پژوهش لایه های اکسید آلومینیوم آندیک از طریق آندایز کردن فویل‌های آلومینیوم درون یک سلول سرد و در دمای ºc1- درجه سلسیوس با استفاده از الکترولیت اسید فسفریک 7/1 مولار تهیه گردید. بررسی جذب طیف فرابنفش (uv) آنها در بازه 195 تا 900 نانومتر برای ولتاژهای آندایزینگ مختلف تا 130 ولت انجام و بحث و مقایسه آن با کارهای انجام شده‌ی قبلی بر روی یک ساختار دارای عیوب با ترکیب al2o3 انجام شد. مشاهده شد که نمونه ها جذب موثری در ناحیه مرئی از خود نشان می دهند که برای بسیاری از کاربردها در حوزه مهندسی سطح نظیر جذب آلاینده ها یا فعالیت فوتوکاتالیستی امیدوار کننده است. همچنین با افزایش ولتاژ جذب اپتیکی لایه های آندیک بر سطح آلومینیوم افزایش می یابد که امکان کنترل میزان جذب را فراهم می کند.