ساخت لایه نازک شفاف آبگریز پایه سیلیکا

در این پژوهش با استفاده از روش پوشش دهی غوطه وری،لایه نازک شفاف آبگریزی با استفاده از پیش ماده های تترااتیل اورتو سیلیکات (teos) ، تری متوکسی متیل سیلان (tmms) و تری کلرو متیل سیلان (tcms) روی شیشه لام اعمال شد. مورفولوژی و زاویه ترشوندگی پوشش ها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی و دستگاه اندازه گیری زاویه تماس بررسی شد. نتایج نشان داد که با اعمال پوشش، زاویه ترشوندگی از 487/65 به 401/123 درجه افزایش یافت. تصاویر میکروسکوپی الکترونی روبشی نیز توزیع یکنواختی از نانوذرات هیبریدی در زمینه پلیمری نشان دادند. دستگاه سختی سنج مدادی سختی h5 را برای پوشش بدست آمده نشان داد که سختی بسیار مناسبی می باشد.