بررسی مشخصات نانو مش مس

در این پژوهش امکان پذیری تولید الکترود شفاف و منعطف بر مبنای نانومش مس بررسی شده است. برای تولید نانومش مس ابتدا بر سطح زیرلایه از جنس پلی اتیلن ترفتالات دومحوره لایه مس به اندازه 50 تا 100 نانو متر بوسیله لایه نشانی فیزیکی تحت خلا لایه نشانی شد. ماسک پلیمری بوسیله الکتروریسی محلول پلی استایرن ایجاد شده و بعد از عملیات حرارتی الیاف در دمای 130 تا 140درجه سانتیگراد در خلا، بخش های محافظت نشده صفحه، بوسیله قرار گرفتن در محلول یک مولار هیدروکسید پتاسیم از سطح صفحه حذف گردید و در مرحله نهایی ماسک پلیمری ایجاد شده در محلول کلروفرم حل گردید. هدایت الکتریکی صفحه بوسیله هدایت سنج چهار پروب و تاثیر پارامترهای الکتروریسی بر مشخصات الیاف بوسیله تصویر برداری میکروسکوپ الکترونی روبشی اندازه گیری شد. نتایج نشان داد که با استفاده از محلول 10% پلی استایرن با ولتاژ 9 کیلوولت امکان ایجاد الیاف یکنواخت با قطر 300 تا 400 نانو متر وجود دارد. بر اساس لایه نشانی مس با ضخامت 50 نانومتر و الکتروریسی پلی استایرن، با تغییر شرایط تولید صفحات نهایی تولید شده، مقاومت الکتریکی در محدوده (ω/□) 40-10 و میزان عبور نور در حدود % 75-40 را نشان میدهد.