هدف‌گذاری انرژی و سطح در مجتمع فرایندی با لحاظ افت فشار بهینه جریان‌ها

در این مطالعه، روشی جدید برای هدف‌گذاری سطح و انرژی موردنیاز در یک مجتمع فرایندی ارائه شده است. ابتدا نقطه بهینه اقتصادی هر یک از فرایندهای موجود در یک مجتمع فرایندی هدف‏گذاری می‏شود. در سطح فرایندی، یک تقابل سه‏طرفه بین انرژی موردنیاز، سطح موردنیاز و افت فشار جریان‏هادر هر فرایند منفرد انجام می‌شود. نتیجه این تقابل اقتصادی تعیین انرژی، سطح و افت فشار بهینه جریان‏ها در هر کدام از فرایندها است. در مرحله بعد، فرایندهای منفرد بهینه در کنار یکدیگر و در مقیاس یک مجتمع فرایندی بررسی شده و با رسم منحنی‏های هدف‏گذاری مجتمع فرایندی مربوط به فناوری پینچ، نقطه بهینه مجتمع تعیین خواهد شد. به منظور صحه‏گذاری روش مذکور، یک مطالعه موردی با دو روش متفاوت هدف‌گذاری سطح و انرژی در مجتمع فرایندی مقایسه شده‌اند. روش اول، روش جدید پیشنهادی است و در روش دوم که تحت عنوان روش متداول یاد می‌شود، از ضرایب انتقال حرارت مفروض جریان‌ها برای هدف‌گذاری در سطح فرایندی استفاده می‌شود. نتایج نشان‏دهنده وجود مقادیر متفاوت هدف‌گذاری شده برای سطح، حداقل انرژی موردنیاز و بازیافت حرارتی در حالت بهینه کردن افت فشار جریا‌ن‌های فرایندی در سطح فرایندی و به دنبال آن در ساختار مجتمع فرایندی است.