بررسی و مقایسه مقاومت شیمیایی رزین پلی استر غیر اشباع بر پایه ترفتالیک اسید و رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ در محیط شیمیایی مختلف

خواص رزین پلی استر غیر اشباع وابسته به نوع کربوکسیلیک اسیدها و گلیکول های مورد استفاده و همچنین درصد نسبی آن‌ها است. با تغیر هر یک از آن‌ها می توان خواص شیمیایی و مکانیکی رزین را بهبود بخشید. رزین های وینیل استر خواص چقرمگی و مقاومت شیمیایی بسیار بهتری نسبت به رزین‌های پلی استر دارند. تغییر شکل حرارتی بالا و استحکام چسبندگی خوب از دیگر خواص این رزین ها می باشد. یکی از خواص ویژه و مهم پلیمر که به شدت به نوع مواد بکار رفته با گروه های عاملی مختلف وابسته است، مقاومت شیمیایی در محیط اسیدی، بازی و نمکی می باشد. داده های بدست آمده نشان می دهد رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ دارای مقاومت فوق العاده ای در برابر محلول سود جوشان با غلظت های مختلف و مدت زمان تماس متفاوت می‌باشد. درحالی که رزین بر پایه ترفتالیک اسید بطور کلی دارای مقاومت شیمیایی کمتری در محیط سود جوشان می باشد. با تغییر نوع گلیکول در رزین پلی استر بر پایه ترفتالیک اسید از مونواتیلن گالیکول به مونو پروپیلن گالیکول خاصیت مقاومت شیمیایی بصورت چشمگیری بهبود پیدا کرد. مقاومت رزین وینیل استر بر پایه بیس فنول آ در محلول اسیدی مختلف و با مدت زمان تماس مختلف بسیار بالا می باشد و هیچ تغییری در ساختار نمونه‌های مورد بررسی ایجاد نشد. مقاومت شیمیایی رزین پلی استر بر پایه ترفتالیک اسید در محیط اسیدی هم به نوع اسید و هم به فرموالسیون بستگی دارد. بیشترین مقاومت در محیط 4so2h و کمترین آن در مخلوط اسیدهای 3hno4/so2h بدست آمد. همچنین در رزین با فرموالسیون مشابه با کاهش مقدار دی اتیلن گالیکول و افزایش مقدار مونواتیلن گالیکول مقاومت شیمیایی در محیط اسیدی بهبود پیدا کرد. با افزودن دی اتیلن گالیکول به فرموالسیون مقاومت شیمایی در محیط مخلوط اسیدهای 3hno4/so2h بشدت بالا رفته و نمونه‌ها بدون تغییر باقی ماندند. نتایج آزمایش ها نشان داد با قرار گیری تمامی نمونه های رزین وینیل استر و پلی استری در مجاورت محلول نمکی جوشان nacl تغیر قابل مشاهده‌ای در ساختار آن‌ها ایجاد نکرد