تاثیر گلایکول ها و کربوکسیلیک اسید های مختلف بر مقاومت شیمیایی رزین پلی استر غیر اشباع بر پایه انیدرید فتالیک و ایزوفتالیک اسید در محیط اسیدی/بازی/نمکی

طیف وسیعی از مواد اولیه برای تولید رزین‌های پلی استر غیر اشباع وجود دارد. انتخاب دی کربوکسیلیک اسیدها، دی الکل‌ها و مونومرهای متفاوت و همچنین استفاده از پرکننده‌های مختلف، تقویت کننده‌ها و آغازگرهای رادیکال آزاد منجر به تولید محصولات و پلیمرهای ترموستی با خواص شیمیایی و مکانیکی متنوع میشود. در این پژوهش تاثیر تغییرات دی کربوکسیلیک اسید و گالیکول‌ها در فرموالسیون رزین پلی استر غیر اشباع بر پایه انیدرید فتالیک و ایزوفتالیک اسید بر روی مقاومت شیمیایی در محلول جوشان اسیدی/بازی/نمکی و در مدت زمان تماس مختلف مورد بررسی قرار گرفت. داده‌های بدست آمده نشان داد پلی استر غیر اشباع بر پایه ایزوفتالیک اسید پایداری بیشتری در محیط های اسیدی/بازی/نمکی با غلظت های مختلف، نسبت به رزین بر پایه انیدرید فتالیک دارد. از طرفی با حذف مونوپروپیلن گالیکول و جایگزینی با مونواتیلن گالیکول مقاومت شیمیایی در محیط بازی رزین بر پایه انیدرید فتالیک تغییر چندانی نکرد. ولی مقاومت شیمیایی آن در محیط اسیدی بشدت کاهش می یابد. تغیر نوع گالیکول بر مقاومت شیمیایی رزین بر پایه ایزوفتالیک اسید در محیط اسیدی/بازی/نمکی تاثیر چندانی نداشت. داده نشان داد برای همه رزین های پلی استر غیر اشباع مورد بررسی، با افزایش غلظت نمک در محلول جوشان مقاومت رزین افزایش یافت. با بررسی تاثیر نوع اسید و مخلوط آن‌ها بر روی مقاومت شیمیایی مشخص گردید رزین بر پایه ایزوفتالیک اسید در محیط اسیدی 4so2h در غلظت‌های مختلف و همچنین در محیط3hno با غلظت های مختلف مقاومت بالایی داشته، اما در محیط اسید کلریدریک و مخلوط 3hno4/so2h مقاومت بسیار پایینی دارد. رزین بر پایه اندرید فتالیک و مونواتیلن گالیکول نسبت به سایر رزین های برپایه انیدرید فتالیک مقاومت کمتری را در همه محلول های اسیدی مورد بررسی نشان داد.