>
Fa   |   Ar   |   En
   بررسی ماده مقاوم نوری اقتصادی (spe-60) در ساخت قالب کانال‌های میکروسیال  
   
نویسنده آقاجری سجاد ,ایل بیگی الهام ,شیرازی مجید ,شریفی خانکهدانی علی ,کریم زاده روح الله
منبع بيست و نهمين كنفرانس اپتيك و فوتونيك ايران و پانزدهمين كنفرانس مهندسي و فناوري فوتونيك ايران - 1401 - دوره : 29 - بیست و نهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و پانزدهمین کنفرانس مهندسی و فناوری فوتونیک ایران - کد همایش: 01221-87935 - صفحه:0 -0
چکیده    از نیازهای اولیه در ساخت کانال میکروسیال، داشتن قالب اولیه مناسب است که به طور متداول به کمک ماده مقاوم نوری تهیه می‌­شود. در این پژوهش تلاش شده که به‌­جای ماده مقاوم نوری پرکاربرد، معروف و پرهزینه su-8، جایگزین اقتصادی spe-60 را معرفی و بررسی کنیم. جهت بررسی توانایی این ماده در ساخت قالب از روش مرسوم فوتولیتوگرافی استفاده می‌­شود. طی این فرآیند لایه مقاوم نوری منفی spe-60 با زمان چرخش 40s، در سرعت پایین، لایه ضخیم‌­تری حاصل می­‌کند. در مرحله پخت‌­نرم، در مورد ضخامت کمینه و بیشینه، زمان پخت تا دوبرابر افزایش یافت. پس از قرار­گیری ماسک نوری، زمان بهینه تابش اشعه ماوراءبنفش برای ضخامت‌­های مختلف بررسی و افزایش ضخامت، موجب افزایش چشمگیر مدت زمان نوردهی شد. در نهایت، در مرحله بهبوددهنده، تفاوت زمانی خاصی برای ضخامت‌­های مختلف مشاهده نمی­‌شود که مطابق انتظار است. تصاویر مطلوبی از ساخت کانال به کمک قالب spe-60 نشان داده شده که توانایی تشکیل سطح یکنواخت، زاویه­‌های واضح و اشکال پیچیده در آنها مشهود است. در نتیجه طبق یافته­‌های تجربی و هزینه بسیار مقرون به صرفه، spe-60 را می­‌توان به عنوان ماده مقاوم نوری اقتصادی معرفی کرد.
کلیدواژه فوتولیتوگرافی، مقاوم نوری، میکروسیال، spe-60 ،su-8
آدرس , iran, , iran, , iran, , iran, , iran
 
   considering photoresist material (spe-60) in mold-making for microfluidic channels  
   
Authors
Abstract    abstract- one of the basic requirements in the construction of microfluidic channels is a suitable initial mold, which is generally prepared with the help of a photoresist material. in this research, we introduce and investigate the economical alternative of spe-60 instead of the widely used, famous, and expensive photoresist su-8. the conventional photolithography method is used to check the ability of this material in mold making. during this process, the spe-60 negative photoresist layer obtains a thicker layer with a 50 s rotation time at low speed. in the case of the minimum and maximum thickness at the soft baking stage, the time increased to twice. after placing the light mask, the optimal time of uv radiation for different thicknesses was checked, and increasing the thickness caused a significant increase in the exposure time. finally, in the developer phase, no specific time difference is observed for different thicknesses, as expected. the ability to form uniform surfaces, sharp angles, and complex shapes is seen in clear images of channel construction using spe-60 mold. as a result, according to the experimental findings and the very affordable cost, spe-60 can be introduced as an economic photoresist material.
Keywords microfluidic ,photolithography ,photoresist ,spe-60 ,su-8
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved