لایه نشانی نانو پوشش شفاف آبگریز ضدیخ پایه پلی دی متیل سیلوکسان به همراه سیلیکای اصلاح شده با هگزا دی متیل سیلازان

پژوهش حاضر به منظور تهیه لایه نازک ضد یخ، آبگریز و اپتیکی بر پایه پلی دی متیل سیلوکسان (pdms) انجام شد. بدین منظور ابتدا محلولی از نانو ذرات سیلیکای اصلاح شده به کمک پیش ماده های تترااتوکسی سیلان (teos) و هگزا دی متیل سیلازان (hdms) استفاده شد. پس از پیرسازی محلول به مدت 24 ساعت در دمای محیط به شکل سرباز، مقادیر مختلف آن به محلول pdms اضافه شد. لایه نشانی نانو پوشش ضدیخ روی زیر لایه شیشه ای به روش غوطه وری انجام شد. لایه های نازک به دست آمده در آون و در دمای120 درجه سانتی گراد به مدت 1 ساعت با نرخ 2 درجه سانتی گراد بر دقیقه حرارت داده شدند. مقدار بهینه اصلاح شده نانو ذرات سیلیکا با hdms، با استفاده از بررسی تاثیر مقادیر مختلف آن روی آبگریزی و شفافیت لایه های نازک با استفاده از دستگاه اندازه گیری زاویه تماس و طیف سنج نوری بررسی گردید. نتایج به دست آمده نشان داد نمونه پوشش دهی شده باpdms همراه با 6 میلی لیتر نانو ذرات سیلیکا اصلاح شده با hdms، منجر به افزایش عبور نور تا 93 درصد و رسیدن به زاویه تماس 100 درجه می‌شود. با بررسی نتایج آزمون طیف سنجی مادون قرمز با تبدیل فوریه (ft-ir)، تشکیل گروه عاملی آبگریز متیل و کاهش اثر گروه آبدوست هیدروکسیل روی سطح تایید گردید. آزمون‌های خود تمیزشوندگی و یخ زدگی روی نمونه بهینه انجام گرفت. آزمون یخ‌زدگی نشان داد که زمان موردنیاز برای یخ‌زدگی کامل روی لایه‌نازک بر پایه pdms اصلاح شده با 6 میلی لیتر اصلاح شده نانو ذرات سیلیکا با hdms بسیار طولانی‌تر از شیشه بدون پوشش و با پوشش pdms است.