خواص فوتوکاتالیستی پوشش های اکسید تیتانیوم حاصل از فرایند اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمائی در حضور تنگستات سدیم

در تحقیق حاضر، پوشش متخلخل دی اکسید تیتانیوم با استفاده از روش اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمائی روی سطح تیتانیوم خالص در یک حمام پایه فسفاتی ایجاد شد. پوشش دهی تحت دو شرایط ولتاژ ثابت و جریان ثابت انجام شد و تاثیر حضور تنگستات در حمام بر فازهای ایجاد شده و در نتیجه بر رفتار فوتوکاتالیستی پوشش ها مورد بررسی شد. بررسی های فازی و ویژگی های ریزساختاری به ترتیب توسط آنالیز پراش اشعه ایکس و میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی انجام شد. پوشش حاصل از شرایط جریان ثابت، tio2 با ساختار فازی آناتاز آلائیده با تنگستن را نشان داد درحالیکه پوشش حاصل از شرایط ولتاژ ثابت، یک کامپوزیت tio2-wo3 بود. عملکرد فوتوکاتالیستی پوشش ها جهت تخریب رنگ متیلن بلو تحت شبیه ساز نور خورشید و با روش اسپکتروفتومتریuv-vis ارزیابی گردید. درصد تخریب متیلن بلو توسط پوشش کامپوزیتی برابر با 14 درصد در مدت زمان 360 دقیقه بود، در حالی که پوشش tio2آلائیده با تنگستن در مدت زمان 180 دقیقه توانست تخریب 78 درصد را نشان دهد که حاکی از فعالیت فوتوکاتالیستی قابل توجه آن بود.