تجزیه فوتوکاتالیستی تتراسایکلین توسط نانو کامپوزیت‌های روی اکسید و بیسموت اکسی برماید

در این مقاله در ابتدا در مورد روش سنتز نانو میله‌های اکسید روی و سپس سنتز نانو کامپوزیت‌های روی اکسید و بیسموت اکسی برماید با روش solvothermal بر روی بستر مش استیل 400 برای تجزیه فوتوکاتالیستی آلاینده آنتی‌بیوتیک تتراسایکلین سنتز شدند. برای رسیدن به حالت بهینه سنتز این نانو کامپوزیت‌ها متغیر ph در سه مقدار متفاوت 4، 7 و 9 موردبررسی قرار گرفت. نمونه بهینهzno-biobr ph=9 برای آزمایش‌های تخریب فوتوکاتالیستی آلاینده تتراسایکلین هم زیر نور مرئی و هم در زیر فرابنفش مورداستفاده قرار گرفت که با توجه به نتایج به‌دست‌آمده از تجزیه فوتوکاتالیستی تتراسایکلین، نور فرابنفش با نرخ سرعت تخریب بیشتر در مقایسه با نور مرئی برای این فرآیند مناسب‌تر است. تجزیه‌وتحلیل طیف‌سنجی بازتابی منتشر (drs) شکاف انرژی ev4.3 را برای نانو کامپوزیت اکسید روی و بیسموت اکسی برماید نشان داد. انعطاف‌پذیری و سنتز آسان فوتوکاتالیست مذکور و همچنین بازیابی سریع از پساب تصفیه‌شده برای کاربردهای عملی امیدوارکننده است.