ساخت میکروعدسی با استفاده از فوتولیتوگرافی با نوردهی گرادیانی

از زمان ظهور سلول های خورشیدی نسل دوم، انواع مختلفی از مواد به عنوان جاذب های خورشیدی برای افزایش کارایی و افزایش دوام این نوع دستگاه ها مورد بررسی قرار گرفته اند. از بین این مواد، ترکیب سه تایی مس آنتیموان سولفید به ‌خاطر ویژگی‌های الکترونیکی و نوری مناسب خود، یک ماده‌ی نیمه‌رسانا قابل اطمینان در سلول‌های خورشیدی نسل دوم تلقی می‌شود. در این تحقیق به مطالعه‌ لایه جاذب مس آنتیموان سولفید رشد داده شده به روش اسپری پیرولیز بر روی لایه کادمیوم سولفید و زیر لایه های اکسید قلع ایندیم و اکسید قلع آلاییده شده با فلور، پرداخته شده است. نتایج بدست آمده از آنالیز پراش اشعه ایکس و میکروسکوپ الکترونی نشان دادند که لایه های جاذب ایجاد شده بر روی لایه کادمیوم سولفید و زیرلایه اکسید قلع آلاییده شده با فلور دارای خواص بلوری و ساختاری بهتر و اندازه دانه های بزرگتر (حدود 100 نانومتر بزرگتر) هستند. همچنین در این مقاله گاف انرژی لایه جاذب نیز در حدود 1/8 الکترون ولت بدست آمد.

fabrication of microlens using gradient exposure photolithography

in this paper, a method to fabricate microlenses using a binary mask under diffraction-based gradient exposure is presented. in traditional lithography, only some areas are exposed to light and other areas remain unexposed. while in gradient exposure lithography, the goal is to create a light intensity gradient so that areas with high light intensity have more height and areas with lower light intensity have less height. the use of lithography with binary mask and gradient exposure makes it possible to produce microlenses with a more accurate curved surface, whose height and distortion can be measured with the using a non-contact profilometer.