بررسی پوشش‌های چندلایه‌ی ta/taxoy ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی

روش کندوپاش مغناطیسی برای ایجاد یک پوشش دو فازی ta/taxoy بر روی آلیاژ حافظه‌دار شکلی niti استفاده شد. این پوشش‌ها برای بهبود خواص سطحی، مانند مقاومت خوردگی و زیست‌سازگاری ایجاد می‌شوند. این لایه‌ها به‌طور همزمان با کندوپاش تارگت تانتالم در محیط ar-o2 تشکیل شدند. علاوه‌براین، تاثیر دمای زیرلایه با این ترکیب گازی مطالعه شد. با استفاده از آزمون‌ پراش اشعه ایکس لایه نازک (gi-xrd) حالت‌های کریستالی پوشش‌ها بررسی شد. آزمون پلاریزاسیون پتانسیودینامیک برای ارزیابی رفتار الکتروشیمیایی نمونه‌های بدون پوشش و پوشش‌دهی شده در محلول sbf و در دمای c 5/0  37 انجام شد. در نهایت، مشخص شد که لایه‌های نازک رسوب‌دهی شده در دمای c 200 از مقاومت خوردگی بسیار عالی برخوردار هستند.

investigating ta/taxoy multilayer coatings created by magnetic sputtering method

magnetron sputtering method was used to create a two-phase ta/taxoy coating on niti shape memory alloy. these coatings are developed to improve surface properties, such as corrosion resistance and biocompatibility. the layers were deposited simultaneously with tantalum target sputtering in ar and ar-o2 environment, respectively. in addition, the effect of substrate temperature at this gas composition was studied. using x-ray diffraction test, the crystalline states of the coatings were investigated. potentiodynamic polarization test was performed to evaluate the electrochemical behavior of uncoated and coated samples in sbf solution and at 37 ? 0.5 ?c. finally, it was found that the thin layers deposited at 200 ?c have excellent corrosion resistance.