توسعه تمپلیت اکسید آلومینیم آندی خودنظم‌یافته و بررسی اثر دما روی خواص خوردگی آن

هدف از این پژوهش بررسی تاثیر پارامتر دمای آندایزینگ بر مقاومت به خوردگی لایه اکسیدی تولیدی می باشد. به این منظور فرآیند آندایزینگ در سه دمای محلول اسید سولفوریک (صفر، 5 و 10 درجه سلسیوس) در اختلاف پتانسیل ثابت 55 ولت وبه مدت یک ساعت صورت گرفت. به منظور عملیات آندایزینگ از محلول اسید سولفوریک 165 گرم برلیتر به عنوان الکترولیت انتخاب شد. آلیاژ آلومینیوم1100 به عنوان زیرلایه انتخاب شد. بررسی مقاومت به خوردگی پوشش‌ها به کمک آزمون‌های پلاریزاسیون تافل و امپدانس الکتروشیمیایی انجام شد. بهترین رفتار خوردگی مربوط به نمونه آندایز شده در دمای 5 درجه سلسیوس بود که کمترین چگالی جریان خوردگی (7-10×74/1 آمپر بر سانتی متر مربع) و بیشترین پتانسیل خوردگی (913/0- میلی ولت) را دارا بود. دلیل اصلی رفتار پلاریزاسیون برتر این پوشش بهینه شدن پارامترهای ضخامت، تخلخل و چسبندگی بالای آن می‌باشد که آزمون چسبندگی vdi این موضوع را به اثبات رساند. تصاویر میکروسکوپ الکترونی برای مقایسه حفره‌زنی انجام شده در آزمون پلاریزاسیون نیز پس از انجام این آزمون از سطح پوشش‌ها تهیه شد. همچنین امپدانس الکتروشیمیایی نیز کاملاً همسو با نتایج پلاریزاسیون بود.