بررسی پارامتر های مختلف در پرداخت‌کاری با ذرات ساینده aio2و sicبا استفاده از میدان مغناطیسی در مقیاس نانو

پرداخت کاری با استفاده ازمیدان مغناطیسی در مقیاس نانو (nmaf)،روشی جدید برای پرداختکاری سطح با زبری در حد نانو بصورت فرآیند مکانیکی بوده و از طریق سایش پودر ذرات ساینده بعنوان ابزار، در فرآیندnmaf می‌باشد، نیروی مورد نیاز برای حرکت ذرات ساینده توسط میدان مغناطیسی که خود دارای حرکت نسبی با قطعه‌کار است تامین می‌شود. این روش برای پرداخت قطعات فلزی غیرمغناطیسی و یا قطعات غیر فلزی قابل استفاده است. از ویژگی های‌ خاص این روش کاهش تنش های حرارتی به قطعه کار و نداشتن محدودیت درپرداختکاری سطوحی از قطعه است که بدلیل شکل هندسی، توانایی انجام کار ابزار های معمول بروی آنها دشوار است. مانند پرداختکاری سوپر آلیاژها و فلزات سخت و همچنین برای سطوحی با فرم های خاصی که نمی توان با روشهای دیگر به میزان صافی سطح قابل قبول رسید،کاربرد دارد..در این مقاله با استفاده از مکانیزم نانوپرداختکاری، پرداختکاری سطوح خارجی استوانه ایی از جنس سوپرآلیاژ اینکوول 816 بررسی شده ، بصورتیکه کیفیت سطح در مقیاس نانو ارتقا می‌یابد.برای ایجاد میدان مغناطسیی از آهنرباهای متغییر با قابلیت تنظیم شدت جریان میدان مغناطیسی استفاده شده است.در آزمایشات انجام شده سعی بر آن است که تاثیرات ذرات ساینده، فاصله آهنربا تا سطح کار(gap) و دوران برروی کیفیت سطوح قطعات مورد بررسی قرار گیرد . افزایش سرعت دورانی تاثیر گذار بوده و افزایش آن تا مقدار خاصی سبب دستیابی به صافی سطح بهتر می شود.پارامتردیگر فاصله ی کاری آهنربا از سطح قطعه کار است که با افزایش فاصله، کیفیت سطح کاهش می یابد. دیگر عاملِ اصلی تاثیرگذار برروی کیفیت سطح ،مقداراستفاده از ذرات ساینده می‌باشد. در این تحقیق از ذرات ساینده آلومینیوم اکسید و سیلیکون‌کارباید و تلفیق آنها استفاده شده است. با افزایش سرعت حرکت نسبی تا یک محدوده خاص، تاثیر مثبت در نتیجه دیده می‌شود اما با گذر از این محدوده تاثیر افزایش سرعت عکس شده و روی نتایج فرآیند اثر نامطلوب خواهد داشت.