|
|
|
|
تاثیر پلاسمای جفت شده القایی (icp) بر روی کاهش قارچ آسپرژیلوس از سطح پسته
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
قرشی امیرحسین ,کارگریان آمنه ,روستا تسوجی محمدامین
|
|
منبع
|
كنفرانس فيزيك ايران - 1399 - دوره : 36 - کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۹۹ - کد همایش: 99200-93529 - صفحه:0 -0
|
|
چکیده
|
در این مقاله، تاثیر پلاسما بر روی کاهش قارچ آسپرژیلوس از سطح پسته را با استفاده از دستگاه پلاسمای جفتشده القایی (icp) مورد بررسی قرار داده‌ایم. بدین منظور، آزمایش‌های متفاوت با در نظر گرفتن پارامترهای موثر مانند فشار، توان، و زمان تابش برای از بین بردن قارچ آسپرژیلوس از روی سطح پسته به‌عنوان یک نمونه خشکبار، انجام و پارامترهای بهینه برای بیش‌ترین میزان کاهش قارچ با حفظ سلامت غذایی، بافت، ظاهر و افزایش ماندگاری پسته گزارش شده است. نتایج نشان می‌دهند، بیش‌ترین میزان کاهش قارچ آسپرژیلوس از سطح پسته با دستگاه icp برابر باlog(cfu/gr) 2 (33 %) در توان w250، فشار torr0.5، و زمان 20 دقیقه می‌باشد. انتظار می-رود که در مقیاس‌های بزرگ صنعتی که دستگاه تولید پلاسما قادر به تحمل توان‌های ورودی بالاتر می‌باشد، این میزان کاهش قارچ به میزان بسیار بیش‌تری افزایش خواهد یافت. بنابراین، می‌توان تکنولوژی پلاسمای سرد را جایگزین روش‌های قدیمی و مرسوم کاهش قارچ آسپرژیلوس از سطح پسته، که اغلب گران بوده و دارای اثرات زیان-آور بر روی سلامت محصولات هستند، نمود.
|
|
کلیدواژه
|
قارچ اسپرژیلوس، پلاسمای جفتشده القایی، ماندگاری پسته، حذف قارچ.
|
|
آدرس
|
پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای. nuclear science and technology research institute, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای. nuclear science and technology research institute, دانشگاه آزاد مرودشت. marvdasht azad university
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Influence of Inductively Coupled Plasma (ICP) on the Aspergillus fungus from the nut surface
|
|
|
|
|
Authors
|
Ghorashi Amir Hossein ,Kargarian Ameneh ,Roosta Tasouji Mohammad Amin
|
|
Abstract
|
The objective of this paper is investigation of plasma effect on the inactivation of Aspergillus Flavus fungi from nut surface using the Inductively Coupled Plasma (ICP) generating device. For this purpose, different experimental tests have been carried out by considering various parameters such as pressure, power, and radiation time in reduction of fungus from the surface of pistachio as a nut sample and eventually the optimum parameters for the maximum reduction of fungus by maintaining the food health, texture, appearance, and durability of the nuts are reported. The experimental results show the maximum reduction of Aspergillus fungus using the ICP device is 2 Log (CFU/gr) (33%) in power of 250 watt, pressure of 0.5 torr, and irradiation time of 10 minutes. It is expected that in large industrial scales, this fungi reduction will be increase because the plasma device is enabled to work in higher powers. Therefore, the cold plasma technology can replace the old and conventional Aspergillus fungi reduction methods, which are often very expensive and have detrimental effects on the nuts health.
|
|
Keywords
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|