|
|
|
|
کنترل آسان مورفولوژی لایه های نازک wo3 تهیه شده به روش بخار مرطوب
|
|
|
|
|
DOR
|
20.1001.2.9920089206.1399.1.1.53.7
|
|
نویسنده
|
عرب نفیسه ,کاظمی مازیار ,باعدی جواد ,داغی حسن اله ,زیرک محمد
|
|
منبع
|
كنفرانس ملي مهندسي شيمي و نانو فناوري - 1399 - دوره : 1 - کنفرانس ملی مهندسی شیمی و نانو فناوری - کد همایش: 99200-89206
|
|
چکیده
|
دراین مقاله لایه های نازک تنگستن اکسیسد بر روی زیرلایه شیشه به روش بخار مرطوب فراصوت تهیه شد. در این روش اثر پارامترهای مهم مانند دمای زیرلایه (200 و 400 درجه سلسیوس) و زاویه زیرلایه (صفر و25درجه) بر مورفولوژی لایه ها به دقت مورد بررسی قرارگرفت. برای مطالعه مورفولوژی سطح لایه ها ازتصاویرsem استفاده گردید. بررسی تصاویر بدست آمده از میکروسکوپ الکترونی نشان داد که در سطح نمونه های تهیه شده در دمای 200 درجه سلسیوس با زاویه صفر و 25 درجه، ساختارنانوالیاف به ترتیب با قطر متوسط 320 و 400 نانومتر بدست آمده اند. ولی هنگامی که دمای زیرلایه به 400 درجه سلسیوس رسید، ساختارهای نانوالیاف از بین رفته اند.
|
|
کلیدواژه
|
تنگستن اکسید ,نانوالیاف ,لایه نازک ,بخار مرطوب فراصوت
|
|
آدرس
|
دانشگاه حکیم سبزواری, ایران, دانشگاه حکیم سبزواری, ایران, دانشگاه حکیم سبزواری, ایران, دانشگاه حکیم سبزواری, ایران, دانشگاه حکیم سبزواری, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|