سنتز نانوکامپوزیت گرافن اکسید - پلی سیتریک اسید-ce0/5mn0/5fe2o4 و کاربرد آن به عنوان عامل کنتراست در تصویر برداری تشدید مغناطیسی

در این کار سنتزنانوکامپوزیت گرافن اکسید - پلی سیتریک اسید-ce0/5mn0/5fe2o4 با استفاده از یک روش ساده و کاربرد آن به عنوان عامل کنتراست منفی در تصویربرداری تشدید مغناطیسی (mri) مورد بررسی قرار گرفته است گرافن اکسید (go) با روش میلدی تهیه شد و با سیتریک اسید (ca) پلیمری شد تا go-pca تولید شد نانوذرات ce0/5mn0/5fe2o4 با روش هم رسوبی سنتز شد که گستره اندازه ذرات بین 25 تا 40 نانومتر و اشباع مغناطیسی (ms) آن 53/5emu g-1 بود نانوذرات بر روی go-pca قرار گرفتند تا نانوکامپوزیت ce0/5mn0/5fe2o4 /go-pca تولید شود که این نانوکامپوزیت پایداری عالی ، پراکندگی زیاد و خواص سوپر مغناطیسی با ms برابر 47/8emu g-1 نشان داد مطالعه برون تنی برداشت سلولی با استفاده از hela ، مقدار کافی و مناسب برداشت سلولی را نشان داد که کاربرد زیست پزشکی این نانوکامپوزیت را امکان پذیر می کند این نانوکامپوزیت اثر افزایش کنتراست قابل توجهی در تصاویر وزن دهی t2 و *t2 داشت که مفادیر t2 و *t2 به ترتیب برابر 109/15 و 180/23mm-1s-1 درt 3/0 بود