توسعه پوشش‌های اکسید گرافن بر سطح مس و ارزیابی رفتار خوردگی آن‌ها

در این پژوهش ابتدا اکسید گرافن به روش هامر اصلاح شده سنتز و سپس پوشش‌های اکسید گرافن با استفاده از دو حمام اسیدی و بازی بر سطح مس اعمال شد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی از سطح پوشش‌ حاصل از هر دو حمام نشان‌دهنده حضور اکسید گرافن بود. تصاویر سطح پوشش‌های حاصل از حمام بازی علاوه بر حضور چروک‌های اکسید گرافن خط‌های پولیش زیرلایه را نیز نشان می‌داد که موید ضخامت بسیار پایین این پوشش‌ها و اسکن موفولوژی زیرلایه توسط آن‌ها است. نتایج طیف‌سنجی رامان موید حضور اکسید گرافن بر سطح زیرلایه مس بود. به علاوه، افزایش نسبت id/ig در پوشش‌های حاصل از هر دو حمام نسبت به پودر اکسید گرافن موید افزایش عیوب ساختاری اکسید گرافن در حین پوشش‌دهی است. نتایج آزمون پلاریزاسیون تافل نشان داد که پوشش‌های نازک اکسید گرافن حاصل از حمام بازی می‌توانند دانسیته جریان خوردگی را تا 12 برابر نسبت به مس بدون پوشش کاهش در حالی که پوشش‌های ضخیم حاصل از حمام اسیدی کاهش قابل توجهی در دانسیته جریان خوردگی نداشته و در برخی موارد حتی منجر به افزایش نرخ خوردگی شدند که ناشی از فصل مشترک ضعیف این پوشش‌ها و در نتیجه تسهیل شرایط خوردگی گالوانیکی است.