|
|
|
|
سنتز گرافن سه بعدی با روش رسوب شیمیایی بخار تحت اتمسفر
|
|
|
|
|
DOR
|
20.1001.2.9819039806.1398.9.1.56.6
|
|
نویسنده
|
bahremandi tolou neda ,بهرمندی طلوع ندا ,salimi jazi hamidreze ,سلیمی جزی حمیدرضا ,kharaziha mahshid ,خرازیها مهشید ,لیسی نیکلا ,lisi nicola
|
|
منبع
|
كنفرانس ملي خلا ايران - 1398 - دوره : 9 - نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران - کد همایش: ۹۸۱۹۰-۳۹۸۰۶ - صفحه:232 -236
|
|
چکیده
|
در سال های اخیر استفاده از گرافن سه بعدی به جای نانوذرات گرافن افزایش یافته است. در این پژوهش گرافن سه بعدی با استفاده از روش رسوب شیمیایی بخار با ایجاد خلا اولیه در محفظه و سپس تحت اتمسفر در دمای 1000 درجه سانتی‌گراد سنتز شد. نمونه‌ها با استفاده از آنالیز رامان، میکروسکوپ الکترونی روبشی و اسپکتروسکوپی فوتون اشعه ایکس بررسی شدند. نتایج آنالیز رامان تشکیل گرافن کم لایه/چندلایه با عیوب کم را نشان داد .به منظور دستیابی به گرافن سه بعدی خود-ایستا، فوم نیکل با استفاده از محلول‌های شیمیایی حذف شد. جهت حفظ ساختار گرافن سه بعدی حین حذف نیکل، از دو پلیمر پلی‌متیل‌متااکریلات(pmma) و سایکلودودکان استفاده شد. نتایج xps نشان داد که سطح نمونه تنها حاوی اکسیژن و کربن می‌باشد و اثری از نیکل و آهن ناشی از فرایند حذف نیکل وجود ندارد. همچنین استفاده از سایکلودودکان امکان حفظ ساختار بهتر و کامل تری را نسبت به pmma نشان داد.
|
|
کلیدواژه
|
رسوب شیمیایی بخار تحت اتمسفر، گرافن سه بعدی، سایکلودودکان
|
|
آدرس
|
دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, دانشکده مهندسی مواد, ایران, آژانس ملی انرژی ایتالیا, ایتالیا, آژانس ملی انرژی ایتالیا, ایتالیا
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Synthesis of 3D-graphene by atmospheric pressure chemical vapor deposition
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
Abstract
|
In recent years, the application of 3D-graphene instead of graphene Nano flakes has been increased. In the currentstudy, 3D graphene were synthesized by chemical vapor deposition (CVD) in the atmospheric pressure at 100 Cwith primary vacuum step. The samples were characterized by Raman analysis, Scanning Electron Microscopy(SEM) and X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). Raman analysis showed that there is fewlayer/multilayergraphene with little defects. Free-standing 3D-graphene was achieved by Nickel removal in chemical solutions.Polymethylmethacrylate and cyclododecane (CD) were used as temporary protective layer during Nickel removing.XPS analysis indicated that there is only carbon and oxygen and there is no evidence of Nickel or Iron due tonickel removal step. The SEM pictures showed that cyclododecane provide a more integrated structure thanPMMA.
|
|
Keywords
|
رسوب شیمیایی بخار تحت اتمسفر، گرافن سه بعدی، سایکلودودکان
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|