>
Fa   |   Ar   |   En
   مطالعه ای بر روی انواع مواد نورگسیل استفاده شده در یکسوساز های نور گسیل آلی استفاده شده در روش های مبتنی بر خلا های بسیار بالا  
   
DOR 20.1001.2.9819039806.1398.9.1.52.2
نویسنده خورشیدی عمار ,khorshidi ammar ,ملاتبار مصطفی ,mollatabar mostafa ,fallah vahid ,فلاح وحید ,bahari ali ,بهاری علی
منبع كنفرانس ملي خلا ايران - 1398 - دوره : 9 - نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران - کد همایش: ۹۸۱۹۰-۳۹۸۰۶ - صفحه:14 -17
چکیده    عملکرد یکسو ساز نورگسیل آلی تا حد زیادی وابسته به مواد گسیلنده نور است. در این تحقیق سعی کردیم تا طبقه بندی مواد گسیلندۀ نور را توصیف و برخی مواد را معرفی کنیم . همۀ این مواد در لایه نشانی نیازمند خلا هستند چرا که به طور مثال در لایه نشانی به روش تبخیر حرارتی فرایندهای لایه نشانی باید تحت شرایط خلا انجام شوند؛ زیرا برای تبخیر حرارتی دمای بسیار بالایی نیاز است و هر فلز واکنش پذیری، در دمای بالا در مجاورت اکسیژن ، اکسید می‌شود. از طرف دیگر، حضور و برخورد مولکول‌های سایر گازها در مسیر انتقال ماده تبخیر شده از منبع به زیرلایه موجب می‌شود که نرخ لایه نشانی کاهش یابد و مانع از تشکیل لایه‌های با چگالی بیشتر شود. همچنین در شرایط خلا تعداد مولکول‌ها کاهش می‌یابند و میزان برخورد مولکول‌های ماده منبع با مولکول‌های موجود در محفظه ، کاهش می‌یابد
کلیدواژه یکسو ساز نورگسیل آلی ,لایه نور گسیل ,فلورسانس ,فسفرسانس
آدرس دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه مازندران واحد بابلسر, دانشکده فیزیک, ایران
 
   A review on emitting materials used in the organic light emitting diode by highvacuum methods  
   
Authors
Abstract    The performance of the organic Norgsil rectifier is largely dependent on the organic Norgsil rectifier material. In this study, we tried to describe the classification of organic Norgsil material and introduce some materials. All these materials in the layer require vacuum because, for example, in the layer by thermal evaporation, the coating processes have to be carried out under vacuum conditions, because very high temperatures are required for thermal evaporation, and any reactive metal at high temperature at In the vicinity of oxygen, it is oxidized.On the other hand, the presence and impact of other gases molecules in the pathway of the evaporation from the source to the substrate reduces the deposition rate and prevents the formation of more dense layers. Also, under vacuum conditions the number of molecules decreases and the rate of contact of the source material molecules with the molecules in the chamber decreases
Keywords
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved