تاثیر پارامترهای خلا در لایه نشانی به روش تبخیر فیزیکی و مورفولوژی سطح در رفتار ترشوندگی لایه نازک نقره

در این مقاله، لایه های نازک نقره به روش رسوب دهی فیزیکی بخار در زمان های لایه نشانی متفاوت بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی شده اند. مشخصه های آماری و توپوگرافی سطوح شامل زبری، طول همبستگی و نمای زبری از طریق داده های آزمون میکروسکوپ نیروی اتمی محاسبه شده است. هم چنین، ضخیم ترین نمونه جهت بررسی ساختار کریستالی مورد آزمون پراش اشعه ایکس قرار گرفته که نتایج نشان داد لایه نشانی در خلا نه چندان ایده آل سبب تشکیل ساختارهای اکسیدی در نقش پراش می شود. در انتها، آزمون ترشوندگی جهت یافتن ارتباط بین مولفه های توپوگرافی و ساختاری انجام گرفت که نتایج نشان داد علاوه بر ساختار سطح و نقش اکسیدهای فلزی در رفتار ترشوندگی، شیب موضعی ریخت سطح نقش به سزایی در رفتار ترشوندگی سطوح دارد.

Influence of vacuum parameters in PVD coating and morphology parameters ofsilver thin films on the wetting behavior of surfaces

AbstractIn this paper, silver thin films have been coated on glass substrates by physical vapor deposition technique.Different morphological parameters such as rms roughness, correlation length, and roughness exponent wereextracted from atomic force microscopy data. The thickest sample was analyzed by x-ray diffraction method tostudy the structure of the films and the results showed that not coating in a very high vacuum may lead to metaloxideformation in the pattern. Finally, contact angle measurements were conducted to find a relation betweentopographical and structural parameters which showed that besides surface structure and surface oxidation,surface local slope has a dominant role in the wetting behavior.