|
|
|
|
بررسی عوامل موثر بر پمپ کندوپاش یونی استاندارد با شبیه سازی پلاسما
|
|
|
|
|
DOR
|
20.1001.2.9819039806.1398.9.1.18.8
|
|
نویسنده
|
azarnivand abbas ,آذرنیوند عباس ,shayanmehr mohsen ,شایان مهر محسن ,سازگار امجد ,sazgar amjadi
|
|
منبع
|
كنفرانس ملي خلا ايران - 1398 - دوره : 9 - نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران - کد همایش: ۹۸۱۹۰-۳۹۸۰۶ - صفحه:83 -86
|
|
چکیده
|
پمپ کندوپاش یونی دارای ویژگی های مطلوبی برای ایجاد شرایط خلا بسیار بالا (uhv) در شتابگرها و حلقه های انبارش می باشد. به‌منظور بررسی عوامل موثر بر عملکرد پمپ کندوپاش یونی، ابتدا با شبیه سازی پلاسمای جریان مستقیم در نرم افزار کامسول، تعداد، انرژی و زاویه برخورد یون ها به دست آمده و سپس با پردازش نتایج مذکور به وسیله کدنویسی، با محاسبه بهره کندوپاش و احتمال نشست، سرعت موثر پمپاژ به دست آمد. نتایج شبیه سازی پلاسمای سلول پنینگ در ضخامت های آند برابر با 25/0، 50/0، 75/0 و 1 میلی متر نشان می دهد که سرعت موثر با کاهش ضخامت آند، کم می گردد. انحراف راستای میدان مغناطیسی از محور آند تا °10 تغییر قابل ملاحظه ای در سرعت موثر ایجاد نمی کند. افزایش فاصله کاتدها و آند δ در محدوده mm 5-9، موجب کاهش سرعت موثر می شود. هم چنین، افزایش شعاع سلول آند r در محدوده mm 7-11 منجر به افزایش سرعت موثر پمپاژ می گردد. نتایج نشان می دهد که عملکرد بهینه پمپ تحت تاثیر عواملی است که با یکدیگر رقابت دارند.
|
|
کلیدواژه
|
پمپ کندوپاش یونی ,شبیه سازی پلاسما ,سرعت موثر
|
|
آدرس
|
سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران, سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران, سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران, سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران, سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران, سازمان انرژی اتمی, پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Investigation of factors influencing standard sputter-ion pump with plasmasimulation
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
Abstract
|
Sputter ion pump owns desirable features to provide UHV condition in the accelerators and the storage rings.In order to investigate factors effective in performance of sputter ion pump, incident number, incident energyand angle of ions on cathode surface is computed by DC plasma simulation in COMSOL software. Byprocessing the simulation results via a code, effective pumping speed is calculated through sputtering yield anddeposition probability. Investigating anode thicknesses of 0.25, 0.50, 0.75 and 1.00 mm in the simulations showsthat effective pumping speed decreases by anode thickness decrease. Misalignment of magnetic field withrespect to anode cell axis up to 10° causes negligible change of the effective speed. Increasing the gap ofcathodes and anode δ in the range of 5-9 mm reduces the effective pumping speed. Also, increase of anode cellreduce R in the range of 7-11 mm improves the speed. The project results represent that optimum performanceof sputter ion pump is influenced by competing parameters.
|
|
Keywords
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|