|
|
|
|
طراحی، شبیه سازی و ساخت بازتابنده تمام دی الکتریک مادون قرمز به روش ضریب شکست متغیر سیلیسیوم
|
|
|
|
|
DOR
|
20.1001.2.9819039806.1398.9.1.36.6
|
|
نویسنده
|
ادیبی اشکان ,shahmohammadi javad ,شاه محمدی جواد ,khashei hesamodin ,خاشعی حسام الدین ,shahsavari elias ,شهسواری الیاس
|
|
منبع
|
كنفرانس ملي خلا ايران - 1398 - دوره : 9 - نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران - کد همایش: ۹۸۱۹۰-۳۹۸۰۶ - صفحه:201 -204
|
|
چکیده
|
همواره سامانه های فروسرخ یکی از ابزار های مهم برای ساخت سامانه های های تصویربرداری بوده است. بازتابنده فروسرخ یکی از مهمترین قطعات در سیستم های اپتیکی می باشد. در این مقاله با استفاده از تغییر ضریب شکست ماده ی سیلیسیوم یک بازتابنده در ناحیه 1300 تا 1900 نانومتر را شبیه سازی شده و سپس این قطعه با استفاده از تغییر ضریب شکست در سیلیسیوم به روش کند وپاش ساخته شد
|
|
کلیدواژه
|
بازتابنده فروسرخ ,فیلتر تداخلی ,پالایه شکااف ,اپتیک موجی
|
|
آدرس
|
دانشگاه صنعتی مالک اشتر, پژوشکده ی اپتیک و لیزر, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران, صنایع اپتیک اصفهان, گروه پژوهشی لایه های نازک, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Design, simulation and manufacture of dielectric infrared reflector by changing inrefractive index of Silicon
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
Abstract
|
Infrared systems are always being important for fabrication imagining systems. Infrared reflector is one of themost important elements of optical systems. In this paper an infrared reflector was simulated and manufacturedby changing refractive index of silicon by using sputtering method in the region of 1000 up to 1900 nanometers.
|
|
Keywords
|
بازتابنده فروسرخ ,فیلتر تداخلی ,پالایه شکااف ,اپتیک موجی
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|