|
|
|
|
طراحی و ساخت الکترودهای شفاف نانوساختار moo3/metal/moo3 با روش تبخیر فیزیکی در محفظه‌ی خلا
|
|
|
|
|
DOR
|
20.1001.2.9819039806.1398.9.1.41.1
|
|
نویسنده
|
موسویان سعید ,قریشی محمد باقر ,mohammadbeigi arezoo ,محمد بیگی آرزو
|
|
منبع
|
كنفرانس ملي خلا ايران - 1398 - دوره : 9 - نهمین کنفرانس ملی خلأ ایران - کد همایش: ۹۸۱۹۰-۳۹۸۰۶ - صفحه:209 -212
|
|
چکیده
|
در این پژوهش، الکترود های نانو ساختار moo3/ag/moo3 و moo3/cu/moo3 با استفاده از روش تبخیر فیزیکی درمحفظه‌ی خلا با ضخامت های بهینه‌ی به ترتیب 20/13/20 ، 33/29/16 نانومتر، روی بستره های شیشه ای لایه نشانی شدند. سپس خواص اپتیکی و الکتریکی هر الکترود از قبیل تراگسیل اپتیکی و مقاومت سطحی مورد بررسی قرار گرفت. تراگسیل اپتیکی برای هر ساختار به ویژه در طول موج 550 نانومتر به ترتیب به صورت 62.8% و 59% و مقاومت سطحی به ترتیب به صورت □/4.5ω و □/ 26ω به‌دست آمد.
|
|
کلیدواژه
|
ضخامت بهینه ,ترا گسیلی اپتیکی ,مقاومت الکتریکی سطحی ,نرم افزار
|
|
آدرس
|
دانشگاه کاشان, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه کاشان, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه کاشان, دانشکده فیزیک, ایران, دانشگاه کاشان, دانشکده فیزیک, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Design and fabrication of MoO3/Metal/MoO3 nanostructured transparentelectrodes by physical evaporation method in a vacuum chamber
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
Abstract
|
In this study, MoO3/Ag/MoO3 and MoO3/Cu/MoO3 nanostructured electrodes with optimum thicknesses of20/13/20, 33/29/16 nm, respectively, were deposited on glass substrates by physical evaporation method invacuum chamber. Then, the optical and electrical properties of each electrode such as optical transmission andsheet resistance were investigated. The optical transmission for each structure, especially at 550 nm, wereobtained as 62.8% and 59%, respectively. and the sheet resistance was investigated as 4.5 and 26 Ω/□,respectively.
|
|
Keywords
|
ضخامت بهینه ,ترا گسیلی اپتیکی ,مقاومت الکتریکی سطحی ,نرم افزار
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|