اثر دمای زیر لایه بر روی ویژگی های اپتیکی لایه نازک تیتانیوم دی اکسید

در این مقاله اثر دمای زیر لایه بر روی ویژگی های اپتیکی لایه تیتانیم دی اکسید، tio2 ، بررسی شده است. لایه های tio2 در دو دمای متفاوت 150و 300 درجه سانتی گراد بر روی زیر لایه از جنس شیشه با روش تبخیر توسط باریکه الکترونی لایه نشانی شده اند. علت انتخاب دو دمای مذکور این است که این دو دما معمولا حداقل و حداکثر دمایی است که در سیستم های pvd قابل حصول است. طیف عبور نمونه ها توسط اسپکتروفوتومتر در بازه طول موجی 400 تا 1200 نانومتر اندازه گیری شده اند. ضریب شکست n وضریب خاموشی k نمونه ها با روش برازش معکوس محاسبه شده اند. نتایج نشان می دهد ضریب شکست n ، لایه tio2 ، در طول موجnm 400 و در دمای 300 درجه سانتیگراد در حدود 0.15 بیشتر از ضریب شکست آن در دمای 150 درجه سانتی گراد است.

The effect of substrate temperature on the optical properties of titanium dioxidethin films

In this paper, the effect of substrate temperature on the optical properties of TiO2 film, TiO2, is investigated.TiO2 layers are deposited on glass substrate at two different temperatures 150 ° C and 300 ° C. The reason forchoosing these two temperatures is that these two temperatures are usually the minimum and maximumtemperatures obtainable in PVD systems. The transmittance spectra of the samples were measured byspectrophotometer in the wavelength range 400-1200 nm. The refractive index n of the extinction coefficient kwas calculated by revers fitting method. The results show that the refractive index of the TiO2 film, at 400 nmwavelength, at 300 ° C is about 0.15 higher than its refractive index at 150 ° C.