بررسی تفاوت آستانه آسیب لیزری پوشش پادبازتابنده در طول موج 1064 نانومتر ، لایه نشانی شده به روشpvd با استفاده از هریک از مواد hfo2, zro2 و ta2o5

لایه های نازک اپتیکی پادبازتابنده دارای کابرد های فروانی در صنعت فوتونیک می باشند، این لایه ها در پنجره های اپتیکی و همچنین لنز ها و دیگر المان های اپتیکی کاربرد دارند. همچنین از آنها در پرتو گسترها و دیگر المان های اپتیکی که جهت کانونی کردن پرتو لیزر می باشد نیز استفاده می شود. اما بالا رفتن انرژی لیزر باعث تخریب این نوع از پوشش ها می شود. در این مقاله سعی شده است با استفاده از سه ماده با ضریب شکست اپتیکی بالا zro2 و hfo2, ta2o5 به همراه ماده با ضریب شکست پایین sio2 سامانه پادبازتابند طراحی و لایه نشانی شود و در پایان مقاوم ترین ماده با ضریب شکست اپتیکی بالا که دارای میزان آستانه آسیب لیزری بالاتری باشد انتخاب شود.

Investigation of laser induced damage threshold of Anti-reflector Coating at 1064nm, deposited with PVD method and using Each of HfO2, ZrO2 and Ta2O5Materials

Optical anti reflection thin-film are widely used in the photonic industry, these layers are used in opticalwindow, lenses and other optical elements. They are also used in beam expander and other optical elements thatused to focus laser beam. But the rise in laser energy causes the damage of these types of coatings. In thispaper, it is attempted to design and deposited anti reflection thin-film with three materials with high opticalrefractive index HfO2, Ta2O5 and ZrO2 Separately with material with low refractive index SiO2 and finally themost resistant material with high optical refractive index that has a higher laser damage threshold Selected.