>
Fa   |   Ar   |   En
   بررسی مکانیزم جذب آنیون‌های هالوژنه در پساب های صنعتی توسط هیدروکسید دولایه منیزیم/آلومینیوم  
   
نویسنده آقازاده طاهره ,محمدنژاد سیما
منبع مهندسي منابع معدني - 1401 - دوره : 7 - شماره : 3 - صفحه:125 -137
چکیده    هیدروکسیدهای دولایه به ‌عنوان یکی از جاذب‌های مناسب در حذف آنیون‌های هالوژنه از پساب‌های صنعتی مطرح‌اند. در این تحقیق روند و مکانیزم جذب انواع هالوژن‌ها به وسیله هیدروکسیدهای دولایه منیزیم/آلومینیم از دو طریق مطالعات آزمایشگاهی و مدلسازی مولکولی کوانتومی بررسی می‌شود. مطالعات آزمایشگاهی بر روی یک هیدروکسید دولایه منیزیم/آلومینیم با نسبت مولی 2 به 1 (غیرکلسینه و کلسینه) انجام شده است. همچنین برای بررسی مکانیزم‌های موثر و همچنین تعیین موقعیت‌ جذب آنیون‌های هالوژنه بر سطح جاذب هیدروکسید دولایه، از روش‌های مدلسازی مولکولی کوانتومی به روش تئوری تابع چگالی استفاده شده است. نتایج مطالعات آزمایشگاهی نشان می‌دهد هر دو هیدروکسید دولایه منیزیم/آلومینیم کلسینه و غیرکلسینه بیشترین میزان جذب را برای یون فلورید (127 و 1116 میلی‌مول بر مول جاذب) و کمترین میزان جذب را برای یون یدید (27 تا 76 میلی‌مول بر مول جاذب) دارند. کلسینه‌ کردن جاذب، میزان جذب را برای تمام هالوژن‌ها به میزان چشمگیری (7/8 تا 1/8برابر برای فلوئور تا ید) افزایش می‌دهد. مکانیزم غالب در جذب آنیون‌های هالوژنه با هیدروکسیدهای دولایه‌ حاوی آنیون بین‌لایه‌ای (غیرکلسینه) از نوع تبادل یونی و در هیدروکسید دولایه کلسینه، از نوع جذب فیزیکی بوده و میزان الکترونگاتیویته یون هالوژن پارامتر تعیین‌کننده در میزان جذب است. به لحاظ ساختاری، مقایسه انرژی واکنش در سه موقعیت اصلی مقابل اتم منیزیم، آلومینیم و همچنین در بین شش‌ضلعی توخالی بین اتم‌های آلومینیم و منیزیم نشان می‌دهد که سایت ترجیحی برای تمام هالوژن‌ها شش‌ضلعی توخالی مابین اتم‌های آلومینیم و منیزیم است. این نتایج علاوه بر تایید نتایج حاصل از مطالعات آزمایشگاهی، امکان به‌ کارگیری روش‌های مدلسازی مولکولی را به‌ عنوان ابزاری قدرتمند در بررسی رفتار و فهم فرآیندها تایید می‌کند.
کلیدواژه هیدروکسید دولایه آلومینیوم/منیزیم، جذب، هالوژن، مدل‌سازی مولکولی
آدرس دانشگاه تربیت مدرس, گروه معدن و محیط ‌زیست, ایران, دانشگاه تربیت مدرس, گروه فرآوری مواد معدنی, ایران
پست الکترونیکی sima.mnejad@modares.ac.ir
 
   investigation of the adsorption mechanism of halogenated anions in industrial wastewaters by mg/al hydroxide double layer  
   
Authors aghazadeh t. ,mohammadnejad s.
Abstract    in the wastewater of many industrial plants and mining industries, there are halogen compounds such as chlorine, fluorine, bromine and iodine, which can redce the quality of recycled water. one way to remove halogenated anions from wastewaters is to use layered double hydroxides, which have several advantages such as simplicity and low price. in this study, the adsorption properties of layered double magnesium / aluminum hydroxide is investigated by laboratory studies and molecular modeling for fluoride to iodine halogens. laboratory studies have been performed to compare the ability to absorb different types of halogens by synthetic magnesium aluminum ldh (original and calcinated at 400 ˚c) and molecular modeling studies to understand effective mechanisms for different halogenated anions. the results of laboratory studies showed that both original and calcinated layered magnesium / aluminum hydrochloride have the highest absorption potential for fluoride ions and the lowest absorption for iodide ions. calcination significantly increases absorption for all types of halogens. the predominant mechanism for the uptake of halogenated anions by non calcinated layered double hydroxides is ion-exchange and in calcinated products, surface and physical absorption. the electronegativity seems to be the determining parameter. the results of the energy calculation of the interaction obtained from the molecular modeling show that the preferred position for all halogens is the hollow hexagonal structure of the double-layer hydroxide. also, the absorption rate in the hollow hexagonal position is the highest for the fluorine and the lowest for iodine. in addition to confirming the results of laboratory studies, these modelling results confirm the possibility of using molecular modeling methods as a powerful tool in examining the behavior and understanding the process mechanisms.
Keywords halogen ,adsorption ,double layer hydroxide ,molecular modeling
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved