>
Fa   |   Ar   |   En
   بررسی پایداری کلوییدی نانوذرات اکسید آهن در فرو سیال آب پایه با استفاده از فعال سطح های پلیمری شانه ای  
   
نویسنده قاسمی ابراهیم ,گیوه کی تهمینه ,نجفی فرهود ,باغشاهی سعید ,نعمتی علی
منبع علم و مهندسي سراميك - 1391 - دوره : 1 - شماره : 1 - صفحه:9 -20
چکیده    در این تحقیق نانو ذرات اکسید آهن مگنتیت با استفاده از روش همرسوبی تهیه و پایداری کلوییدی آنها با استفاده از سه نوع ماده فعال سطح پلیمری شانه ای برپایه پلی آکریلیک اسید-پلی اتیلن گلیکول آکریلات در محیط آبی مورد بررسی قرار گرفت. تفاوت مواد فعال سطح شانه ای در سه نوع پلی اتیلن گلیکول با وزن ملکولی 1000، 2000 و 4000 بود که به بدنه هیدروفوب آکریلاتی متصل است. تاثیر پارامترهای دما و زمان واکنش بر اندازه ذرات تشکیل شده مطالعه شد. محدوده دمایی، بین 27 تا ?c90 و محدوده زمانی بین 10 تا 40 دقیقه انتخاب شد. برای بدست آوردن نانو ذرات مگنتیت، کلرید‌های آهن دو و سه ظرفیتی با تنظیم ph توسط آمونیاک رسوب داده شد. برای بررسی توزیع اندازه ذرات و بررسی پایداری از روش‌های تفرق دینامیک لیزری (dls) وکدورت سنجی استفاده شد. اتصال سطحی مواد فعال سطح شانه ای بر روی نانو ذرات با استفاده از روش ftirبررسی شد. نتایج حاصل نشان داد که بسته به نوع فعال سطح شانه ای استفاده شده در محیط آبی، اندازه ذرات متفاوت می‌باشد و فعال سطح با شانه های پلی اتیلن گلیکول با وزن ملکولی 2000 برای دستیابی به اندازه ذرات کوچک تر و پایداری بهتر، نسبت به دو نوع دیگر مناسب تر است. همچنین مشخص شد که مقدار 22 درصد وزنی از این فعال سطحی ، دمای سنتز ?c70 و زمان واکنش 20 دقیقه، مناسب ترین مقادیر برای دستیابی به بیشترین پایداری است. در این شرایط، اندازه هیدرو دینامیکی ذرات nm80 به دست آمد.
کلیدواژه فعال سطح پلیمری شانه ای ,نانو ذرات ,پایداری ,فرو سیال
آدرس موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش, موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ, ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات, دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم وتحقیقات، دانشکده مهندسی مواد, ایران, موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ و پوشش, موسسه پژوهشی علوم و فناوری رنگ, ایران, دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره), ایران, دانشگاه صنعتی شریف, دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده مهندسی و علم مواد, ایران
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved