|
|
effect of hydrofluoric acid concentration and etching time on the surface roughness of cad/cam ceramics
|
|
|
|
|
نویسنده
|
mokhtarpour faraneh ,alaghehmand homayoon ,khafri soraya ,mahdian mina
|
منبع
|
caspian journal of dental research - 2019 - دوره : 8 - شماره : 2 - صفحه:8 -15
|
چکیده
|
Introduction: dental ceramics are considered as materials that can restore the appearance of natural teeth. etching the inner surface of a ceramic restoration with hydrofluoric acid (hf) followed by using a silane coupling agent is a wellknown and recommended method to increase the bond strength. the aim of etching on ceramic structure is to enhance the surface roughness (ra) and energy and to cleanse the bonding area. the aim of this study was to evaluate the effect of different hf concentrations and etching times on the ra of ips e.max cadtm and vita mark iitm.materials methods: two hf concentrations (5% and 10%) and three etching times (20, 60 and 120 seconds) were evaluated. etched patterns were observed by scanning electron microscopy (sem) and ra was measured using atomic force microscopy (afm). surface element analysis was performed using energy dispersive xray spectroscopy (edax). data were analyzed on spss 20 using anova and ttest.results: the ra had no significant difference among various vita mark iitm specimens (p=0.973). among ips e.maxtm specimens etched with 5% hf, the afm results showed that 20s etching time had the lowest ra and among those etched with 10% hf and 120s etching time had the most ra. in ips e.maxtm specimens etched with acid for 20 s, a significant difference was observed in ra of 5% and 10% acid concentrations (5% hf lower than 10% hf) (p=0.012).conclusion: among ips e.maxtm specimens etched with 5% and 10% hf, increasing the etching time lead to higher ra. for both ips e.maxtm and vita mark iitm, 20s etching with 5% hf provides acceptable ra for the bond.
|
کلیدواژه
|
ceramics ,hydrofluoric acid ,scanning electron microscopy
|
آدرس
|
babol university of medical sciences, oral health research center, health research institute, iran, babol university of medical sciences, dental materials research center, health research institute, iran, babol university of medical sciences, cancer research center, health research institute, iran, stony brook university school of dental medicine, department of prosthodontics and digital technology, usa
|
پست الکترونیکی
|
mahdianmina@gmail.com
|
|
|
|
|
|
|
|
|
تأثیر غلظت اسید هیدروفلوئوریک و زمان اچ کردن بر خشونت سطحی سرامیک های CAD/CAM
|
|
|
Authors
|
مختارپور فرانه ,علاقه مند همایون ,خفری ثریا ,مهدیان مینا
|
Abstract
|
مقدمه: سرامیک های دندانی به عنوان موادی ارزیابی می شوند که می توانند نمای دندان های طبیعی را بازسازی کنند. اچ کردن سطح داخلی ترمیم های سرامیکی با هیدروفلوئوریک اسید و به دنبال آن کاربرد عامل جفت کننده سیلانی روشی شناخته و توصیه شده برای افزایش استحکام باند می باشد. هدف اچ کردن ساختار سرامیکی، افزایش خشونت سطحی و انرژی سطحی و تمیز کردن ناحیه باند می باشد. هدف این مطالعه ارزیابی تأثیر غلظت های مختلف اسید هیدروفلوئوریک و زمان های اچ با آن بر خشونت سطحی سرامیک های IPS e.maxTM CAD و Vita mark IITM می باشد.مواد و روش ها: دو غلظت مختلف اسید هیدروفلوئوریک ( ۵% و ۱۰%) و سه زمان مختلف اچ (۲۰و ۶۰ و ۱۲۰ ثانیه) مورد ارزیابی قرار گرفت. الگوی اچ توسط میکروسکوپ الکترونی SEM بررسی شد و میزان خشونت سطحی توسط AFM اندازه گیری گردید. آنالیز عناصر سطحی هم با استفاده از طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس انجام شد. داده ها در SPSS نسخه ۲۰ با استفاده از ANOVA و Ttest انجام شد.یافته ها: خشونت سطحی بین گروه های مختلف در سرامیک Vita mark IITM تفاوت معنی داری را نشان نداد (0.973.(P= نتایج AFM نشان داد بین گروه های سرامیک IPS e.maxTM که با اسید ۵% اچ شدند کمترین میزان خشونت سطحی در ۲۰ ثانیه اچ دیده شد و بین گروه های اچ شده با اسید ۱۰%، ۱۲۰ ثانیه اچ بیشترین خشونت سطحی را ایجاد کرد. در گروه سرامیک های IPS e.maxTM در زمان ۲۰ ثانیه اچ با اسید، تفاوت معنی داری در خشونت سطحی غلظت های اسید ۵% و ۱۰% مشاهده شد (در غلظت ۵% کمتر از ۱۰%) )0.012=p).نتیجه گیری: بین گروه های سرامیکIPS e.maxTM با اسید ۵% و۱۰% اچ شدند،افزایش زمان اچ کردن باعث افزایش خشونت سطحی می شود. برای هر دو سرامیک IPS e.maxTM و Vita mark IITM ۲۰ ثانیه اچ با اسید ۵% خشونت سطحی قابل قبولی را برای باند فراهم می کند.
|
Keywords
|
سرامیک، اسید هیدروفلوئوریک، میکروسکوپ الکترونی روبشی
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|