>
Fa   |   Ar   |   En
   مطالعه نظری خواص ساختاری، کشسانی و پراکنش فونونی فوتوکاتالیست تنگستن تری‌اکسید  
   
نویسنده شجاعی فهیمه
منبع پژوهش سيستم هاي بس ذره اي - 1394 - دوره : 5 - شماره : 9 - صفحه:7 -17
چکیده    محاسبات اصول اولیه خواص ساختاری، کشسانی و پاشندگی فونونی تنگستن تری اکسید((wo3 مکعبی با تقریب شیب تعمیم‌یافته (gga) و روش شبه‌پتانسیل فوق نرم، بر اساس نظریه تابعی چگالی انجام‌شده است. وابستگی فشار نسبت به ثابت‌های کشسانی، مدول‌های حجمی، مدول‌های برشی، مدول‌های یانگ، دمای دبای کشسانی، ضریب ناهمسانگردی کشسانی، نسبت پواسون، شکل‌پذیری، سرعت‌های کشسان و پارامتر کلینمن نشان داده‌شده است. تجزیه ‌و تحلیل ثابت‌های کشسانی محاسبه‌شده، نشان می‌دهد که از فشار gpa150 به بالا ساختارwo3 ازنظر مکانیکی ناپایدار می‌شود. از پاشندگی فونونی تنگستن تری‌اکسید مشاهده می‌شود که بسامدهای فونونی با کاهش حجم افزایش می‌یابند. نتایج نشان می‌دهد که ثابت شبکه و حجم سلول با نتایج تجربی توافق خوبی دارد. خواص کشسانی تنگستن تری اکسید مکعبی، برای اولین بار بررسی‌شده‌اند.
کلیدواژه خواص کشسانی ,پاشندگی فونونی ,ساختار مکعبی تنگستن تری‌اکسید ,اصول اولیه ,Elastic Properties ,Phonon Dispersion ,Cubic Structure Of Tungsten Trioxide ,First-Principles
آدرس دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی و فناوری پیشرفته, عضو هیات علمی پژوهشکده فوتونیک، دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی و فناوری پیشرفته، ماهان، کرمان، ایران, ایران
پست الکترونیکی f.shojaie@kgut.ac.ir
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved