مطالعه‌ تاثیر ضخامت و آهنگ لایه‌نشانی بر ویژگی‌های ساختاری لایه‌های نازک آلومینیوم بر روی بستر ito/pedot:pss/alq3 تهیه شده به‌روش تبخیر گرمایی در خلاء

هدف از این پژوهش بررسی تاثیر تغییر ضخامت و آهنگ‌های لایه‌نشانی متفاوت لایه‌های نازک آلومینیوم بر روی بستر ito/pedot:pss/alq3 بر ویژگی‌های ساختاری لایه‌ آلومینیوم است. بدین منظور لایه‌های نازک pedot:pss،  و al به‌ترتیب بر روی زیر لایه ito لایه نشانی شدند. برای بررسی اثر تغییر ضخامت، لایه‌های نازک آلومینیوم با ضخامت‌های 60 و 80 و 100 نانومتر و برای بررسی اثر تغییر آهنگ لایه‌نشانی، لایه‌های نازک آلومینیوم با آهنگ های 0.1 و 0.5 و 1 و nm/s 2 بر روی لایه‌ 3alq به‌روش تبخیر گرمایی لایه‌نشانی شدند. لایه‌ pedot:pss با روش لایه‌نشانی چرخشی با دستگاهspin coating ساخت شرکت backer لایه نشانی شد. لایه‌های 3alq و al به‌ترتیب با روش لایه نشانی تبخیر گرمایی در خلاء با دستگاه تبخیر گرمایی در خلاء ساخت جهاد دانشگاهی دانشگاه شریف لایه نشانی شدند. ساختار لایه‌ها توسط پراش پرتو ایکس (xrd) و ریختار آنها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی اثر میدان (fesem) و میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) مطالعه شدند. مشخصه‌یابی پراش پرتو ایکس نشان داد که لایه‌های تهیه شده با ضخامت کمتر از nm 100 و با آهنگ لایه‌نشانی کمتر از nm/s 1 دارای ساختار بس‌بلوری با قله‌هایی در راستای صفحه (111) می‌باشند. تصاویر fesem ساختار دانه‌ای نمونه‌ها را نشان می‌دهد. افزایش آهنگ لایه‌نشانی منجر به افزایش خوشه‌ها در سطح لایه می‌شود که افزایش اندازه دانه‌ها را به‌همراه دارد. تصاویر afm نشان می‌دهند که افزایش ضخامت لایه و آهنگ لایه نشانی باعث افزایش زبری سطح لایه می‌شود.

the study effect of thickness and deposition rate on structural properties of aluminum thin films prepared by thermal evaporation technique

in this study, pedot:pss, alq3 and al thin films were deposited on the ito substrate, respectively. the of aluminum thin films with different thicknesses and deposition rates were deposited on alq3 film by thermal evaporation technique. the structure of the films by x-ray diffraction (xrd) and their morphology by field effect scanning electron microscope (fesem) and atomic force microscopy (afm) were studied. x-ray diffraction characterization showed that the films prepared with a thickness less than 100 nm and with a deposition rate less than 1 nm/s have a polycrystalline structure with a peak along the (111) plane. the fesem images show the grain structure of the samples. increasing deposition rate leads to the increase of clusters on the surface of film that resulting an increase in the size of the grains. the afm images show that increasing the thickness and deposition rate of film cause to increase the surface roughness of film.