تاثیردمای بازپخت برروی ویژگی های نانو ساختاری، مورفولوژی و نوری لایه های اکسید نیکل تهیه شده توسط اکسیژن دهی حرارتی لایه های نیکل انباشتی به روش تبخیر باریکه الکترونی

در این تحقیق،ابتدا لایه های نازک نیکل با روش تبخیر باریکه الکترونی تحت شرایط انباشت یکسان بر روی زیرلایه های سیلیکان و کوارتز لایه نشانی شده و سپس تحت فلوی اکسیژن در دماهای متفاوت c° 700-400 در کوره الکتریکی بازپخت حرارتی شدند. تاثیر دمای بازپخت بر روی ویژگی های ساختاری، مورفولوژیکی و نوری نمونه ها به ترتیب با آنالیزهای پراش اشعه ایکس (xrd)، میکروسکوپ نیروی اتمی(afm) ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem)و طیف سنجی فرابنفش مرئی بررسی شده است. نتایج آنالیز xrd نشان داد که فاز بلوری نیکل در دمای بازپخت c° 400 ایجاد شده است و با افزایش دما از c° 500 تا c° 700 فازهای بلوری اکسید نیکل قابل مشاهده هستند. تصویرهای afm و sem نیز نشان می دهند که دمای بازپخت مورفولوژی و زمختی سطح لایه ها را قویا تحت تاثیر خود قرار داده و با افزایش دمای بازپخت اندازه دانه ها افزایش یافته است. همچنین بااستفاده از داده های عبوری لایه های اکسید نیکل انباشتی بر روی زیر لایه کوارتز مقادیر گاف انرژی لایه های اکسید نیکل محاسبه شده اند.

Effect of annealing temperature on nano structural, morphological and optical properties of nickel oxide films prepared by thermal oxidation of nickel films deposited by electron beam evaporation

In this work, firstly the nickel thin films were deposited on silicon and quartz substrates by electron beam evaporation technique at the same deposition conditions. Then the prepared films were annealed at different temperatures of 400700 °C in electrical furnace. The effect of annealing temperature on structural, morphological and optical properties of samples were investigated by Xray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), scanning electron microscopy (SEM) and UVVis spectrophotometry. XRD results revealed the formation of crystalline nickel phases in annealing temperature of 400 °C and by increasing of annealing temperature from 500 °C to 700 °C the crystalline nickel oxide phases can be observed. The AFM and SEM images showed that the annealing temperature effectively influenced the morphology and surface roughness of films and the grain sizes increased by annealing temperature enhancement. Also the optical band gap values of nickel oxide films deposited on quartz substrates were calculated from transmittance data.