رشد نانوپوسه های mos2 ایستاده بر سطح به روش رسوب‌دهی بخار شیمیایی

خواص الکترونیکی جالب و ویژگی‌های کاتالیستی چندلایه‌های دوبعدی mos2امروزه توجه محققان را به خود جلب کرده است. در این مقاله سنتز نانوپوسه‌های mos2 ایستاده روی زیرلایه sio2/si در فرآیند سولفید شدن سریع به روش رسوب بخار شیمیایی، گزارش شده است. مشخصه‌یابی مواد با استفاده از طیف‌سنجی رامان، xrd و fe-sem انجام گردید. نتایج xrd نشان دهنده فاز غالب 2h-mos2 و فاصله دو پیک برجسته‌ی e12g و a1g در پراکندگی رامان، ضخامت 6 تا 10 لایه اتمی برای پوسه‌ها را تصدیق می‌کند. با توجه به داده‌های تجربی، مکانیزم رشد را بر اساس دانه‌بندی و رشد دوبعدی و در مرحله بعدی بهم پیوستن جزایر دوبعدی و در مرحله نهایی رشد پوسه‌ای ایستاده بهم متصل معرفی کرده‌ایم. این ساختارهای ایستاده که سایت‌های فعال زیادی در لبه‌ها دارند کاربردهای بالقوه و امیدوار کننده‌ی بسیاری در ترانزیستورهای ظریف، حسگرهای گاز و واکنش‌های کاتالیستی خواهند داشت.

Growth of standing MoS2 nanoflakes by Chemical Vapor Deposition

Interesting electronic and catalytic properties of twodimensional MoS2 fewlayers have attracted the attention of researchers today. In this paper, the synthesis of MoS2 nanoflakes standing on the SiO2/Si substrate in the process of rapid sulfidation by chemical vapor deposition has been reported. Material characterization was performed using Raman spectroscopy, XRD and FESEM. The XRD results indicate the dominant phase of 2HMoS2 and the distance between the two leading peaks of E12g and A1g in the Raman dispersion confirms the thickness of 6 to 10 atomic layers. According to the experimental data, the growth mechanism was introduced based on nucleation and growth of twodimensional islands, and in the next stage, coalescence of these twodimensional islands and in the final stage, standing nanoflakes grow. These structures that have active sites on the edges have many potential and promising applications in fine transistors, gas sensors and catalytic reactions.