>
Fa   |   Ar   |   En
   ساخت نقاط کوانتومی سولفید روی: بررسی اثر حضور عامل مهارکننده تیولی بر روی خواص فتوفیزیکی و ریزساختار نانوذرات  
   
نویسنده طاهریان مژده ,صباغ الوانی علی اصغر ,شکرگزار علی محمد ,طباطبایی فرزانه ,موسی خانی شیما ,سلیمی رضا ,سامعی حسن ,کیانی سجاد
منبع مواد پيشرفته و پوشش هاي نوين - 1392 - دوره : 2 - شماره : 5 - صفحه:367 -374
چکیده    در پژوهش حاضر، نقاط کوانتومی zns، به روشآبی سنتز و تاثیر تیوگلایکولیک‌ اسید به عنوان عامل مهارکننده آلی در غلظت‌های متفاوت (0، 5/1، 2و 5/2%وزنی)بر روی خواص فتوفیزیکی و ریزساختار نانوذراتبررسی گردید.جهت ارزیابی خواص فازی، ریزساختار و فتوفیزیکی نانوذرات تهیه شده، از آزمون‌های پراش اشعه ایکس (xrd)، طیف‌سنجی تبدیلفوریهمادون قرمز (ftir)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem)، جذب در ناحیهمریی-فرابنفش (uv-vis)و اسپکتروفوتومتری فتونورتابیی (pl) استفاده شد.آزمون پراش اشعه ایکس نشان داد که فاز مورد نظر تشکیل شده ونانوبلورک‌های حاصل ساختار مکعبی با اندازه 3-2 نانومتر دارند. همچنین،تصاویر حاصل از میکروسکوپ الکترونی روبشی، مورفولوژی نسبتا یکنواخت و ذرات کروی شکل را نشان داد. بعلاوه، نتایج آزمون طیف‌سنجیتبدیلفوریهمادونقرمز(ftir)حاکی از حضور گروه‌‌های آلی بر روی سطح نانوذرات می‌باشد. با توجه به آزمون فتونورتابیی، بیشترین شدت نشر در غلظت2% از عامل مهارکننده در طول موج 520 نانومتر مشاهده گردید که به علت کاهش نقص‌های سطحی می‌باشد.شکاف انرژی حاصل از آزمون جذب مریی-فرابنفش، برای نمونه در حضور عامل مهارکننده بزرگتر از نمونه بدون آن می‌باشد. هم‌چنین در نتیجه اثر تحدید کوانتومی، شکاف انرژی نمونه‌ها از شکاف انرژی مربوط به تودهznsبزرگتر است.
کلیدواژه نقاط کوانتومی ,عامل مهارکننده ,نورتابی ,روش آبی ,خواص فتوفیزیکی
آدرس دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, انستیتو پاستور ایران, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, ایران
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved