Investigations of Magnetic Properties Through Electrodeposition Current and Controlled Cu Content in Pulse Electrodeposited CoFeCu Nanowires

Cofecu  nanowires  were  deposited  by  pulsed  electrodeposition technique  into  the  porous  alumina  templates  by  a  two-step  mild anodization  technique,  using  the  single-bath  method.  the electrodeposition  was  performed  in  a  constant  electrolyte  while  cu constant  was  controlled  by  electrodeposition  current.  the electrodeposition  current  was  3.5,  4.25,  5  and  6  ma.  the  effect  of electrodeposition  current  and  annealing  on  the  magnetic  behavior  of the nanowires was  investigated. nanowires were fabricated with 30nm diameter  and  100nm  inter-pore  distance with  both bcc-cofe  and  fcc-cu  phases.  with  increasing  the  electrodeposition  current  the  cu content  decrease  and  the  coercivity  and magnetization  increase  up  to its  optimum  value,  then  decrease. annealing  improved  the  coercivity, maximum  coercivity  was  obtained  for  sample  fabricated  at  5  ma current.  after  annealing  the  magnetization  decrease  for  all  sampls. the  x-ray  diffraction  pattern  of  the  sample  at  electrodeposition current  3.5  ma  after  annealed  indicates  that  cu  and  cofe  phases separately  was  formed  and  separate  peak  related  to  cofecu  alloy structure is not seen.