|
|
morphological investigation of al-cu-fe quasi-crystalline thin film on ti-6al-4v alloy
|
|
|
|
|
نویسنده
|
rahimipour m. r. ,abaei m. ,farvizi m. ,eshraghi m. j.
|
منبع
|
international journal of iron and steel society of iran - 2024 - دوره : 21 - شماره : 1 - صفحه:9 -14
|
چکیده
|
Magnetron sputtering was used in the current study to deposit the quasicrystal (qc) coating on the ti-6al-4v alloy. after the sputtering process, a continuous argon flow at 700°c was used for two hours to anneal the al-cu-fe coated samples. the microstructure and morphology of mixed powders and al-cu-fe qc coatings were examined using scanning electron microscope (sem) analysis and x-ray diffraction (xrd). the al62.5cu25fe12.5 powder mixing was used as the target of the magnetic sputtering process. al-cu-fe thin layer’s deposition on the ti-6al-4v alloy surface took place with no cracks and a thickness of approximately 4000 nm. as shown by calculations, five facet shapes had a size of nearly 643 nm. the xrd patterns confirmed the presence of al3fe, alti2, and al65cu20fe15 phases after the post-heat treatment coating.
|
کلیدواژه
|
quasicrystals ,thin film ,ti-6al-4v alloy
|
آدرس
|
material & energy research center (merc), iran, material & energy research center (merc), iran, material & energy research center (merc), iran, material & energy research center (merc), iran
|
پست الکترونیکی
|
eshr56@gmail.com
|
|
|
|
|
|
|
|
|
بررسی مورفولوژیکی فیلم لایه نازک شبه کریستالی al-cu-fe برروی آلیاژ ti-6al-4v
|
|
|
Authors
|
رحیمی پور محمدرضا ,عبائی محسن ,فرویزی محمد ,اشراقی محمد جواد
|
Abstract
|
در مطالعه حاضر از کندوپاش مگنترون برای رسوب پوشش شبه کریستال (qc) روی آلیاژ ti-6al-4v استفاده شد. پس از فرآیند کندوپاش، جریان پیوسته آرگون در دمای 700 درجه سانتی گراد به مدت دو ساعت برای بازپخت نمونه های پوشش داده شده با al-cu-fe استفاده شد. ریزساختار و مورفولوژی پودرهای مخلوط و پوششهای qc al-cu-fe با استفاده از آنالیز میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) و پراش اشعه ایکس (xrd) مورد بررسی قرار گرفت. مخلوط پودر al62.5cu25fe12.5 به عنوان هدف فرآیند کندوپاش مغناطیسی مورد استفاده قرار گرفت. رسوب لایه نازک al-cu-fe روی سطح آلیاژ ti-6al-4v بدون ترک و ضخامت تقریباً 4000 نانومتر انجام شد. همانطور که توسط محاسبات نشان داده شده است، پنج شکل وجهی دارای اندازه نزدیک به 643 نانومتر بودند. الگوهای xrd وجود فازهای al3fe، alti2 و al65cu20fe15 را پس از پوشش پس از عملیات حرارتی تایید کردند.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|