اثر غلظت و زمان کاربرد نانو اکسید آهن بر کیفیت و عملکرد غده سیب زمینی

به منظور بررسی تجمع نیترات و تغییرات عملکرد غده و پروتئین با مصرف غلظت های نانو اکسید آهن در مراحل مختلف رشد سیب زمینی، آزمایشی به صورت فاکتوریل، در قالب طرح بلوک های کامل تصادفی و در 3 تکرار در سال 1391، در اردبیل انجام شد. فاکتور اول کود نانواکسید آهن در سطوح 0، 0.5، 1، 1.5 و 2 درصد و اکسید آهن معمولی در سطح دو درصد و فاکتور دوم مراحل محلول پاشی (رشد رویشی، شروع غده بندی و پرشدن غده) بود. نتایج نشان داد که با کاربرد نانو اکسید آهن میزان نیترات غده به‌طور معنی داری کاهش یافت و کمترین نیترات نسبت به شاهد در برهمکنش محلول پاشی غلظت های 1.5 و 2 درصد نانواکسید آهن در مرحله پرشدن غده به دست آمد. بیشترین شاخص سبزینگی برگ و وزن متوسط غده با اختلاف معنی دار نسبت به شاهد در اثر برهمکنش محلول پاشی غلظت های 1، 1.5 و 2 درصد و بیشترین درصد پروتئین غده با غلظت های 1.5 و 2 درصد نانواکسید آهن در زمان پرشدن غده به دست آمد. غلظت های 1، 1.5 و 2 درصد نانو اکسید آهن و همچنین محلول پاشی در زمان پر شدن غده با اختلاف معنی دار نسبت به سایر تیمارها بیشترین عملکرد غده را به خود اختصاص دادند. همچنین کاربرد اکسید آهن معمولی نیز عملکرد غده سیب زمینی را نسبت به شاهد به‌طور معنی داری افزایش داد ولی با غلظت های 0.5 و 1 درصد نانواکسید آهن در گروه مشترک قرار گرفت. به‌طور کلی از نظر تمام صفات مورد اندازه گیری، غلظت 2 درصد نانواکسید آهن با محلول پاشی در زمان پرشدن غده بهترین نتیجه را داشت و برای کاربرد توسط زارعین توصیه می شود.