>
Fa   |   Ar   |   En
   ارتقاء نانومتری صافی سطح ساچمه های سیلیکون نیتراید (si3n4) با استفاده از پرداختکاری شیمیایی مکانیکی (cmp)  
   
نویسنده وحدتی مهرداد ,عاملی کلخوران عادل
منبع مجله مهندسي مكانيك دانشگاه تبريز - 1399 - دوره : 50 - شماره : 2 - صفحه:253 -260
چکیده    پرداختکاری شیمیایی مکانیکی (cmp)، یکی از روش های پرداختکاری نانومتری ساچمه ها و ویفرهای غیرفلزی، مانند ساچمه های سیلیکون نیتراید و انواع سرامیک ها می باشد. در این فرآیند، ذرات ساینده (zro2, ceo2, fe2o3) که سختی کمتری نسبت به قطعه کار دارند، در سیالی غوطه ور هستند. در همین حالت، قطعه کار با سیال پایه (آب، هوا، آب اکسیژنه و یا روغن) واکنش شیمیایی داده و یک لایه نازک سیلیکا (sio2) روی سطح قطعه کار ایجاد می شود. برداشت لایه نازک اکسیدشده، توسط ذرات ساینده، در نتیجه این واکنش، به راحتی از سطح قطعه کار انجام می گیرد. عوامل موثر در پرداختکاری شیمیایی مکانیکی شامل 1 غلظت ذرات ساینده، 2 سرعت دوران کله گی ماشین فرز، 3 زمان پرداختکاری و 4 نوع ذرات ساینده است که با تغییر هر کدام، عواملی مانند 1 زبری سطح، 2 کرویت و 3 نرخ براده برداری تغییر می کند. در تحقیق حاضر، برای پرداخت شیمیایی مکانیکی ساچمه های سیلیکون نیتراید، دستگاهی آزمایشگاهی طراحی و ساخته شد و جمعاً 24 آزمایش برای بررسی فاکتورهای ذکر شده بر صافی سطح قطعه کار و نرخ برداشت ماده، با نرم افزار minitab، طراحی و انجام گردید. برای هر کدام از فاکتورها، دو سطح تنظیم شد و پس از آنالیز واریانس نتایج تجربی، معادله های رگرسیون برای صافی سطح و نرخ برداشت ماده بدست آمد. در آزمایش های انجام شده، با استفاده از هر سه ذره ساینده، با افزایش زمان پرداختکاری، سرعت دوران کله گی ماشین فرز و غلظت ذرات ساینده، میزان برداشت ماده بیشتر شده و کیفیت سطح نیز بهبود یافت. ریخت شناسی زبری سطح با استفاده از طیف نمائی پرتو ایکس مطالعه شد. هم چنین، امکان پذیری انجام واکنش های شیمیایی توسط معادله انرژی آزاد گیبس بررسی گردید. درنهایت، راه کارهایی برای پرداخت بهینه ساچمه های سرامیکی با توجه به شرایط آزمایشگاهی و آنالیز واریانس پیشنهاد شد. مقایسه نتایج تجربی نشان داد که زبری سطح ساچمه های پرداخت شده توسط ذرات ساینده fe2o3  به مراتب بهتر از دو ساینده دیگر است(ra= 69 nm).
کلیدواژه پرداختکاری شیمیایی مکانیکی، صافی سطح، نرخ برداشت ماده، سیلیکون نیتراید
آدرس دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی, گروه مهندسی مکانیک, ایران, دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی, گروه مهندسی مکانیک, ایران
 
   NanoMetric Enhancement of Surface Roughness of Silicon Nitride balls (Si3N4) by Chemical Mechanical Polishing (CMP)  
   
Authors Vahdati Mehrdad ,Ameli Kalkhoran Seyed Adel
Abstract    Effect of different nanoparticle on thermoeconomic optimization of a shell and tube heat exchanger (STHE) is investigated in this paper. Aluminum oxide (Al2O3) and silicon dioxide (SiO2) are used as nanoparticles. Thermal modeling by εNTU method and multiobjective optimization using genetic algorithm is used to increase effectiveness and reduce total annual cost. Tube arrangement, tube diameter, tube pitch ratio, tube length in each pass, tube number, baffle spacing ratio, baffle cut ratio, cold stream flow allocation, tube pass number and particles volumetric concentration are considered as ten design parameters. The results as a set of solutions (Pareto optimal front) is displayed. The results showed that efficiency and total annual cost improved in the case with nanoparticles. For example, 4.174% and 2.028%, improvement in the effectiveness are find respectively for aluminum oxide and silicon oxide compared with base fluid and for a fixed value of annual cost=5000 $/year. Furthermore, the effect of nanoparticle on some of heat exchanger specifications is studied and results are reported.
Keywords
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved