>
Fa   |   Ar   |   En
   بررسی خاصیت فتوکاتالیستی لایه نازک V Doped Tio2تهیه شده با روش سل-ژل  
   
نویسنده مهرنوش مهرنوش ,شریعت محمد حسین ,پاک شیر محمود
منبع مواد نوين - 1391 - دوره : 2 - شماره : 7 - صفحه:21 -26
چکیده    در این پژوهش، لایه نازک دی اکسید تیتانیوم دوپ شده باوانادیوم، روی زیرلایه های شیشه ای با روش سل-ژل تهیه شد. سپس ساختارکریستالی و ویژگی های سطحی پوشش به وسیله روش هایxrd و ftir مورد مطالعه قرارگرفت. ویژگی های اپتیکی لایه ی نازک دی اکسید تیتانیوم با استفاده از روش uv/vis–spectrophotometer بررسی شد. خاصیت فتوکاتالیستی لایه های نازک با استفاده از تخریب methylene blue مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشان دادندکه افزایش وانادیوم به دی اکسیدتیتانیوم باعث کاهش انرژی فاصله باند و انتقال لبه ی جذب از نور ماورابنفش به طرف نورمریی شده است و بازدهی فتوکاتالیستی دی اکسیدتیتانیوم با افزایش وانادیم کاهش یافته است.
کلیدواژه دی اکسیدتیتانیوم ,خاصیت فتوکاتالیستی ,انرژی باند ,متیلن آبی ,سل-ژل
آدرس دانشگاه شیراز, ایران, دانشگاه شیراز, ایران, دانشگاه شیراز, ایران
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved