|
|
|
|
بررسی اثر استفاده از رادیکال های گازی سیستم گازی آمونیاک و تری کلروسیلان بر رشد و خصوصیات لایه نازک نیترید سیلیکون آمورف لایه نشانی شده به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
سلماسی آرمین ,کشاورزعلمداری اسکندر
|
|
منبع
|
مواد پيشرفته در مهندسي - 1391 - دوره : 31 - شماره : 2 - صفحه:53 -63
|
|
|
|
|
کلیدواژه
|
رادیکال آزاد گازی ,کاتالیزور پلاتین ایریدیوم آلومینا ,نیترید سیلیکون آمورف ,تری کلروسیلان ,لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین
|
|
آدرس
|
پژوهشگاه مواد و انرژی, ایران, دانشگاه صنعتی امیرکبیر, دانشکده مهندسی معدن و متالورژی, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|