اثر محلول‌پاشی نانوسیلیکون بر صفات مورفولوژیکی، عملکرد و تعدیل تنش خشکی در گیاه کینوا (chenopodium quinoa l.)

اهداف: پژوهش حاضر با هدف بررسی اثر نانوسیلیکون برعملکرد و کاهش اثر ناشی از تنش آبی در گیاه کینوا اجراء شد. مواد و روش‌ها: آزمایش به‌صورت کرت‌های خرد شده بر پایه بلوک‌های کامل تصادفی در سه تکرار در مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس اجراء گردید. تیمارها شامل رژیم‌های آبیاری در چهار دور 7، 14، 21 و 28 روز و محلول‌پاشی نانوسیلیکون در سطوح صفر، 30 و 60 میلی‌گرم در لیتر درنظر گرفته شد. یافته‌ها: اعمال تنش رطوبتی متوسط (دور آبیاری 21 روز) و شدید (دور آبیاری 28 روز) در مقایسه با عدم تنش (دور آبیاری 7 روز) سبب کاهش 5.93 و 24.65 درصد در طول پانیکول، 8.77 و 27.81 درصد در عرض پانیکول، 5.14 و 29.44 درصد در تعداد پانیکول، 12.05 و 23.87 درصد در وزن کل اندام هوایی، 24.73 و 54.95 درصد در عملکرد دانه، 26.11 و 55.94 درصد در وزن هزار دانه و 14.53 و 41.16 درصد در شاخص برداشت گیاه گردید. تنش‌های رطوبتی فوق سبب 125 و 78.84 درصد افزایش در بهره‌وری مصرف آب شد. همچنین محلول‌پاشی نانوسیلیکون تاثیر معنی داری بر شاخص‌های رشد گیاه کینوا دارد بطوری که حداکثر ارتفاع گیاه، طول, عرض و تعداد پانیکول، وزن کل اندام هوایی، عملکرد دانه و بهره‌وری مصرف آب در محلول‌پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی‌گرم در لیتر مشاهده گردید. نتیجه‌گیری: محلول پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی گرم در لیتر در دو مرحله ابتدای خوشه دهی و دانه بندی سبب پایین آمدن اثرات منفی تنش های رطوبتی در شرایط تنش با دور آبیاری 21 و 28 روز در گیاه کینوا می گردد. محلول پاشی 30 میلی گرم نانوسیلیکون در لیتر منجر به کاهش افت وزن کل اندام هوایی، عملکرد دانه و وزن هزار دانه به ترتیب به میزان 25.5، 24.14 و 91.19 درصد در اثر تنش در دور آبیاری 21 روز گردید.

the effect of nanosilicon foliar application on morphological, yield and adjusment of drought stress in quinoa plant (chenopodium quinoa l.)

background and objective: the present study was conducted with aim of investigating the effect of nanosilicon on yield the performance and reducing the effect caused by water stress in quinoa plant.materials and methods: the experiment was conducted as split plot based on randomized complete blocks design with three replications in fars agricultural and natural resources research and education center. the treatments included irrigation regimes in four rounds of 7, 14, 21 and 28 days and nanosilicon spraying at zero, 30 and 60 mg l-1 levels.results: application of irrigation cycles of 21 and 28 days compared to no stress (7 days) caused a decrease of 5.93 and 24.65% in panicle length, 8.77 and 27.81% in panicle width, 5.14 and 29.44% in panicle number, 12.05 and 23.87% in total aerial organ weight, 24.73 and 54.95% in seed yield, 26.11 and 55.94% in the weight of one thousand seeds and 14.53 and 41.16% in the plant harvest index. also, nanosilicon foliar has a significant effect on quinoa plant growth, so that the maximum morphological growth, grain yield and water consumption efficiency observed in nanosilicon application with concentration 30 mg l-1.conclusion: nanosilicon spraying with 30 mg l-1 concentration in beginning of clustering and granulation stages reduces the negative effects of moisture stress in irrigation cycles 21 and 28 days on the quinoa plant. spraying 30 mg l-1 of nanosilicon leds to a decrease in total aerial organ weight, seed yield and thousand seed weight respectively by 5.25%, 14.24% and 19.91% due to stress in 21 days irrigation cycle.