رفتار الکتروشیمیایی و چسبندگی پوشش‌های الکتروفورتیک نانوساختار Ha-Tio2

در این پژوهش، پوشش‌های کامپوزیتی از نانوذرات ha/tio2 با ترکیب 0، 10 و 20 درصد وزنی tio2 به روش لایه نشانی الکتروفورتیک در ولتاژ 20 ولت و زمان 3 دقیقه ایجاد شدند. برای مطالعه رفتار الکتروشیمیایی پوشش‌ها در محلول شبیه سازی شده بدن (sbf) در دمای oc 37، آزمون خوردگی به روش پلاریزاسیون پتانسیودینامیک انجام ‌شد. به منظور بررسی تشکیل آپاتیت بر سطح پوشش‌ها و تاثیر حضور اکسید تیتانیم، پوشش‌ها از آزمون طیف‌سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (eis) استفاده شد. نحوه تغییرات پارامترهای مدار معادل با تشکیل آپاتیت در زمان‌های مختلف محاسبه شده و مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. کمترین مقدار چگالی جریان خوردگی (icorr) در مقابل بیشترین مقدار پتانسیل خوردگی (ecorr) و مقاومت پلاریزاسیون (rp) در نمونه کامپوزیتی با 20 % وزنی tio2 مشاهده شد. بر اساس آنالیز شیمیایی icp از غلظت یون کلسیم موجود در داخل محلول sbf مشاهده شد که سرعت انحلال در داخل محلول برای نمونه ha در مقایسه با سایر نمونه‌ها بیشتر است و با افزایش مقدار فاز هیدروکسی آپاتیت در ساختار پوشش انحلال بیشتری صورت می‌گیرد. بعد از 15 روز غوطه‌وری مقدار غلظت یون کلسیم داخل sbf برای نمونه کامپوزیتی با 20 % وزنی tio2 تقریباً ثابت می‌ماند که نشان دهنده رسیدن سریعتر به شرایط پایدار و کامل شدن تشکیل آپاتیت بر سطح این پوشش‌ها است. همچنین استحکام چسبندگی پوشش‌ها با افزودن تیتانیا در نمونه با 20 % وزنی tio2، تقریبا 2 برابر افزایش یافت.