|
|
مقایسهی بین لیزر دیود کمتوان 660 نانومتر و کرم آسیکلوویر 5 درصد در درمان تبخال لب
|
|
|
|
|
نویسنده
|
حاجیان پریسا ,شیرانی امیرمنصور ,خسروی مریم
|
منبع
|
مجله دانشكده دندانپزشكي اصفهان - 1400 - دوره : 17 - شماره : 2 - صفحه:175 -182
|
چکیده
|
مقدمه: تبخال لبی عودکننده، یک عفونت شایع است که در 20 تا 40 درصد جمعیت دیده میشود و خطر انتقال عفونت در حین درمان دندانپزشکی هم دارد. راههای درمانی متعددی برای آن مطرح است. در این مطالعه به مقایسهی درمان با لیزر و آسیکلوویر موضعی پرداخته شد. مواد و روشها: این مطالعه به صورت کارآزمایی بالینی یک سوکور در بخش بیماریهای دهان، فک و صورت دانشکدهی دندانپزشکی دانشگاه آزاد اسلامی واحد اصفهان (خوراسگان) در دورهی یکساله 1393-1394 صورت گرفت. تعداد 30 بیمار دچار عفونت هرپس لیبالیس، به 2 گروه مساوی تقسیم شدند. بیماران در گروه لیزر به صورت سه جلسهی یک روز در میان با لیزر دیود با طول موج nm 660، توان mw100، دوز j/cm^2 4 با تابش پیوسته و غیر تماسی با فاصلهی mm^1 به مدت 40 ثانیه تحت تابش قرار گرفتند. بیماران در گروه دارویی با کرم آسیلکوویر 5 درصد موضعی به صورت پنج بار در روز، درمان شدند. در هر دو گروه، تغییرات شدت درد، تغییر ابعاد ضایعات طی دورهی درمانی و همچنین مدت زمان بهبودی کامل ثبت گردید. دادههای جمعآوری شده با آزمونهای آماری t-test و repeated measures anova تجزیه و تحلیل شدند (0.05 > p value).یافتهها: گروه لیزر در مقایسه با گروه آسیکلوویر موضعی، کاهش معنیدار در میانگین مدت زمان رهایی از درد(0.001 < p value) و مدت زمان بهبودی (0.001 > p value) و میانگین ابعاد ضایعات 2 روز پس از درمان (0.03 = p value) و 4 روز پس از درمان (0.003 = p value) داشت.نتیجهگیری: طبق یافتههای به دست آمده، لیزر 660 نانومتر در مقایسه با کرم آسیکلوویر، در برطرف شدن درد و کاهش ابعاد ضایعات و مدت زمان بهبودی، موثرتر بود.
|
کلیدواژه
|
تبخال لبی، درمان لیزر کمتوان، آسیکلوویر
|
آدرس
|
دانشگاه آزاد اسلامی واحد اصفهان (خوراسگان), ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد اصفهان (خوراسگان), دانشکدهی دندانپزشکی, گروه بیماریهای دهان، فک و صورت, ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد اصفهان (خوراسگان), دانشکدهی دندانپزشکی, گروه بیماریهای دهان، فک و صورت, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|